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■ 2022年 出願公開件数ランキング 第296位 118件 (2021年:第424位 82件)
■ 2022年 特許取得件数ランキング 第335位 90件 (2021年:第239位 120件)
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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特表 2022-540105 | 光学ガラス材料としての四ホウ酸ストロンチウム | 2022年 9月14日 | |
特表 2022-540130 | 光学的表面欠陥物質特性評価のための方法およびシステム | 2022年 9月14日 | |
特表 2022-539321 | 位置ずれの測定およびその改善のための関心領域の選択 | 2022年 9月 8日 | |
特表 2022-537988 | 光源のキャビティの圧力制御 | 2022年 8月31日 | |
特表 2022-537342 | テスト用フォトマスクを用いるTDIイメージセンサ向けEUVインサイチュー直線性校正 | 2022年 8月25日 | |
特表 2022-537379 | マルチステージマルチゾーン基板位置決めシステム | 2022年 8月25日 | |
特表 2022-536953 | 非対称ウエハ形状特徴付けのためのメトリック | 2022年 8月22日 | |
特開 2022-121502 | 拡張赤外分光エリプソメトリ方法 | 2022年 8月19日 | |
特表 2022-536644 | 洗浄基板によるインシトゥプロセスチャンバチャック洗浄 | 2022年 8月18日 | |
特開 2022-119894 | 半導体試料内の瑕疵を検出又は精査するシステム | 2022年 8月17日 | |
特表 2022-535824 | 極端紫外マスク検査システムの波面収差計量 | 2022年 8月10日 | |
特表 2022-535399 | 光学システム内の光の1つ又は複数の特性の決定 | 2022年 8月 8日 | |
特開 2022-113724 | 測定ウェハ装置 | 2022年 8月 4日 | |
特表 2022-535068 | 広帯域紫外照明源 | 2022年 8月 4日 | |
特表 2022-535149 | データ駆動型ミスレジストレーションパラメータ設定および測定システムおよび方法 | 2022年 8月 4日 |
118 件中 31-45 件を表示
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2022-540105 2022-540130 2022-539321 2022-537988 2022-537342 2022-537379 2022-536953 2022-121502 2022-536644 2022-119894 2022-535824 2022-535399 2022-113724 2022-535068 2022-535149
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11月22日(金) -
11月22日(金) - 東京 千代田区
11月22日(金) - 東京 港区
11月22日(金) -
11月22日(金) - 大阪 大阪市
11月22日(金) -
11月22日(金) -
11月25日(月) -
11月25日(月) - 岐阜 各務原市
11月26日(火) -
11月26日(火) - 東京 港区
11月26日(火) -
11月26日(火) -
11月26日(火) -
11月27日(水) - 東京 港区
11月27日(水) -
11月27日(水) -
11月27日(水) -
11月27日(水) -
11月28日(木) - 東京 港区
11月28日(木) - 島根 松江市
11月28日(木) - 京都 京都市
11月28日(木) -
11月28日(木) - 大阪 大阪市
11月28日(木) -
11月29日(金) - 東京 港区
11月29日(金) - 茨城 ひたちなか市
11月30日(土) -
12月1日(日) -
12月1日(日) -
11月25日(月) -
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