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ケーエルエー−テンカー コーポレイション
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■ 2022年 出願公開件数ランキング 第296位 118件
（
2021年：第424位 82件）
■ 2022年 特許取得件数ランキング 第335位 90件
（
2021年：第239位 120件）
（ランキング更新日：2024年11月22日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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ケーエルエー−テンカー コーポレイションの商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特表 2022-546178 | 動的標本化プラン、最適化ウェハ計測経路及び最適化ウェハ輸送を伴い量子情報処理を用いるファブ管理 | 2022年11月 4日 | |
| 特表 2022-545724 | 波長分解軟Ｘ線反射率測定に基づく半導体計測のための方法及びシステム | 2022年10月28日 | |
| 特表 2022-545726 | 走査型電子顕微法アプリケーション用センサモジュール | 2022年10月28日 | |
| 特開 2022-164702 | レチクルを検査する装置および方法 | 2022年10月27日 | |
| 特表 2022-544804 | プラズマプロセス中の表面反応の動力学モデルを調整するシステムと方法 | 2022年10月21日 | |
| 特表 2022-544478 | パワー変調のための音響光学変調器を用いたレーザ閉パワーループ | 2022年10月19日 | |
| 特表 2022-544252 | 分子状汚染物及び粒子軽減のための真空アクチュエータ封入 | 2022年10月17日 | |
| 特開 2022-153592 | ホットスポット及びプロセスウィンドウ監視装置 | 2022年10月12日 | |
| 特表 2022-542900 | ＳＥＭ画像をレンダリングし、３Ｄデザインを用いて基板の欠陥撮像条件を予測するためのシステムと方法 | 2022年10月 7日 | |
| 特表 2022-542959 | ウェーハワープ適用範囲を維持しながら効率が劣るピクセルを用いてデータ処理スループットを向上させるシステム及び方法 | 2022年10月 7日 | |
| 特表 2022-542557 | オーバーレイ計測システム用の自動レシピ最適化 | 2022年10月 5日 | |
| 特表 2022-542195 | 周期的半導体デバイス位置ずれ計量システム及び方法 | 2022年 9月29日 | |
| 特表 2022-541602 | 透過及び反射光を組み合わせた半導体素子の内部クラックの撮像 | 2022年 9月26日 | |
| 特表 2022-540651 | マルチミラーレーザ維持プラズマ光源 | 2022年 9月16日 | |
| 特表 2022-540007 | 走査計量学のための計量学ターゲット | 2022年 9月14日 |
118 件中 16-30 件を表示
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2022-546178 2022-545724 2022-545726 2022-164702 2022-544804 2022-544478 2022-544252 2022-153592 2022-542900 2022-542959 2022-542557 2022-542195 2022-541602 2022-540651 2022-540007
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