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■ 2022年 出願公開件数ランキング 第296位 118件 (2021年:第424位 82件)
■ 2022年 特許取得件数ランキング 第335位 90件 (2021年:第239位 120件)
(ランキング更新日:2024年11月22日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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特表 2022-527829 | 設定可能焦点オフセットによって試料表面を追跡するための自動焦点調節システム | 2022年 6月 6日 | |
特開 2022-81498 | 高さ計測装置及び方法 | 2022年 5月31日 | |
特表 2022-527217 | 接地されたサンプル近接静電容量センサを有する検査システム | 2022年 5月31日 | |
特表 2022-526933 | 改善された計量用自己モアレ格子デザイン | 2022年 5月27日 | |
特表 2022-526994 | Z高さの絶対値を利用したツール間の相乗効果 | 2022年 5月27日 | |
特開 2022-79538 | 多入射角半導体計測システム及び方法 | 2022年 5月26日 | |
特表 2022-526748 | 半導体デバイスにおけるパラメタ安定位置ずれ計測改善 | 2022年 5月26日 | |
特表 2022-526625 | 確率的レチクル欠陥処理 | 2022年 5月25日 | |
特表 2022-525620 | 光学分散の多次元モデル | 2022年 5月18日 | |
特表 2022-525655 | 背表面粗さを前側オーバレイに変換するシステム及び方法 | 2022年 5月18日 | |
特表 2022-525123 | 半導体処理装置における希ガスの収集とリサイクル | 2022年 5月11日 | |
特開 2022-65040 | 測定方法 | 2022年 4月26日 | |
特表 2022-523692 | プロセス変動に対する計量感度を定量するためのスケーリング指標 | 2022年 4月26日 | |
特表 2022-523492 | モアレターゲット及びそれを用い半導体デバイスの位置ずれを計測する方法 | 2022年 4月25日 | |
特表 2022-523033 | 共配置計量方法及びシステム | 2022年 4月21日 |
118 件中 61-75 件を表示
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2022-527829 2022-81498 2022-527217 2022-526933 2022-526994 2022-79538 2022-526748 2022-526625 2022-525620 2022-525655 2022-525123 2022-65040 2022-523692 2022-523492 2022-523033
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11月22日(金) -
11月22日(金) - 東京 千代田区
11月22日(金) - 東京 港区
11月22日(金) -
11月22日(金) - 大阪 大阪市
11月22日(金) -
11月22日(金) -
11月25日(月) -
11月25日(月) - 岐阜 各務原市
11月26日(火) -
11月26日(火) - 東京 港区
11月26日(火) -
11月26日(火) -
11月26日(火) -
11月27日(水) - 東京 港区
11月27日(水) -
11月27日(水) -
11月27日(水) -
11月27日(水) -
11月28日(木) - 東京 港区
11月28日(木) - 島根 松江市
11月28日(木) - 京都 京都市
11月28日(木) -
11月28日(木) - 大阪 大阪市
11月28日(木) -
11月29日(金) - 東京 港区
11月29日(金) - 茨城 ひたちなか市
11月30日(土) -
12月1日(日) -
12月1日(日) -
11月25日(月) -
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