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■ 2023年 出願公開件数ランキング 第332位 104件
(2022年:第296位 118件)
■ 2023年 特許取得件数ランキング 第345位 92件
(2022年:第335位 90件)
(ランキング更新日:2025年6月6日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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特表 2023-513040 | 複合的オーバレイ計測ターゲット | 2023年 3月30日 | |
特表 2023-513080 | 半導体デバイス内潜在的信頼性欠陥識別システム及び方法 | 2023年 3月30日 | |
特表 2023-513159 | マルチ電子ビームシステム用のマイクロスティグマトールアレイ | 2023年 3月30日 | |
特表 2023-512825 | 広帯域照射同調 | 2023年 3月29日 | |
特表 2023-512649 | 高圧流れを有するレーザ維持プラズマ光源 | 2023年 3月28日 | |
特表 2023-512258 | 接合されたウェハのオーバレイ計測 | 2023年 3月24日 | |
特開 2023-38254 | ウェハ検査システム | 2023年 3月16日 | |
特開 2023-36641 | 計測ターゲット設計の方法、計測モジュール、及び計測ターゲットの製造方法 | 2023年 3月14日 | |
特開 2023-33401 | X線スキャトロメトリシステムのフルビーム計測 | 2023年 3月10日 | |
特開 2023-33554 | 走査型電子顕微法システム | 2023年 3月10日 | |
特表 2023-509787 | 高度なインライン部品平均試験 | 2023年 3月 9日 | |
特表 2023-509480 | 軟X線スキャタロメトリに依拠するオーバレイ計測方法及びシステム | 2023年 3月 8日 | |
特表 2023-508538 | 厚膜フォトレジスト層計測ターゲット | 2023年 3月 2日 | |
特表 2023-507780 | ウェーハモデルを使用するウェーハ露光方法及びウェーハ製造アセンブリ | 2023年 2月27日 | |
特開 2023-25174 | 三次元半導体構造を可視化するコンピュータ可読記憶媒体 | 2023年 2月21日 |
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2023-513040 2023-513080 2023-513159 2023-512825 2023-512649 2023-512258 2023-38254 2023-36641 2023-33401 2023-33554 2023-509787 2023-509480 2023-508538 2023-507780 2023-25174
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