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ケーエルエー−テンカー コーポレイション

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  2023年 出願公開件数ランキング    第332位 104件 下降2022年:第296位 118件)

  2023年 特許取得件数ランキング    第345位 92件 下降2022年:第335位 90件)

(ランキング更新日:2024年11月10日)筆頭出願人である出願のみカウントしています

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公報番号発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)公報発行日備考
特表 2023-533465 重複構造上での後方散乱電子をモデル化することによりオーバレイを計測するためのターゲット及びアルゴリズム 2023年 8月 3日
特表 2023-533520 モアレ効果を呈するデバイス様オーバレイ計量ターゲット 2023年 8月 3日
特表 2023-531479 半導体製造プロセスで使用される敏感な層の試料損傷を防いで走査型電子顕微鏡撮像を可能にする方法 2023年 7月24日
特表 2023-531530 機械学習を用いた半導体オーバーレイ測定 2023年 7月24日
特表 2023-530629 基板ハンドリング用局所化パージモジュール 2023年 7月19日
特表 2023-530632 対角回折ベースのオーバーレイターゲットを測定するための計測システムおよび方法 2023年 7月19日
特表 2023-530266 積み重ねられた四ホウ酸ストロンチウム板を使用した周波数変換 2023年 7月14日
特表 2023-529050 位置ずれ測定値に対するウェハ傾斜の影響の補正のためのシステムおよび方法 2023年 7月 7日
特表 2023-528464 周期的位置ずれの一次元測定のための計測ターゲット 2023年 7月 4日
特表 2023-527995 埋込計量ターゲット用撮像システム 2023年 7月 3日
特表 2023-527715 品質管理専用ウェハを用いない半導体計測ツール群の整合 2023年 6月30日
特開 2023-90913 半導体デバイスの側面の検査装置 2023年 6月29日
特表 2023-526864 オーバーレイ計測ツールおよび方法 2023年 6月23日
特表 2023-525809 ウェハアライメントのためのシステム、方法、及びターゲット 2023年 6月19日
特表 2023-525584 光学対物レンズを回転させるための装置および方法 2023年 6月16日

104 件中 46-60 件を表示

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2023-533465 2023-533520 2023-531479 2023-531530 2023-530629 2023-530632 2023-530266 2023-529050 2023-528464 2023-527995 2023-527715 2023-90913 2023-526864 2023-525809 2023-525584

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