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■ 2023年 出願公開件数ランキング 第332位 104件
(2022年:第296位 118件)
■ 2023年 特許取得件数ランキング 第345位 92件
(2022年:第335位 90件)
(ランキング更新日:2025年2月18日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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特表 2023-533465 | 重複構造上での後方散乱電子をモデル化することによりオーバレイを計測するためのターゲット及びアルゴリズム | 2023年 8月 3日 | |
特表 2023-533520 | モアレ効果を呈するデバイス様オーバレイ計量ターゲット | 2023年 8月 3日 | |
特表 2023-531479 | 半導体製造プロセスで使用される敏感な層の試料損傷を防いで走査型電子顕微鏡撮像を可能にする方法 | 2023年 7月24日 | |
特表 2023-531530 | 機械学習を用いた半導体オーバーレイ測定 | 2023年 7月24日 | |
特表 2023-530629 | 基板ハンドリング用局所化パージモジュール | 2023年 7月19日 | |
特表 2023-530632 | 対角回折ベースのオーバーレイターゲットを測定するための計測システムおよび方法 | 2023年 7月19日 | |
特表 2023-530266 | 積み重ねられた四ホウ酸ストロンチウム板を使用した周波数変換 | 2023年 7月14日 | |
特表 2023-529050 | 位置ずれ測定値に対するウェハ傾斜の影響の補正のためのシステムおよび方法 | 2023年 7月 7日 | |
特表 2023-528464 | 周期的位置ずれの一次元測定のための計測ターゲット | 2023年 7月 4日 | |
特表 2023-527995 | 埋込計量ターゲット用撮像システム | 2023年 7月 3日 | |
特表 2023-527715 | 品質管理専用ウェハを用いない半導体計測ツール群の整合 | 2023年 6月30日 | |
特開 2023-90913 | 半導体デバイスの側面の検査装置 | 2023年 6月29日 | |
特表 2023-526864 | オーバーレイ計測ツールおよび方法 | 2023年 6月23日 | |
特表 2023-525809 | ウェハアライメントのためのシステム、方法、及びターゲット | 2023年 6月19日 | |
特表 2023-525584 | 光学対物レンズを回転させるための装置および方法 | 2023年 6月16日 |
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2023-533465 2023-533520 2023-531479 2023-531530 2023-530629 2023-530632 2023-530266 2023-529050 2023-528464 2023-527995 2023-527715 2023-90913 2023-526864 2023-525809 2023-525584
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パテントマップを用いた知財戦略の策定方法 -自社が勝つパテントマップ作成と それを活用した開発戦略・知財戦略の実践方法- <東京会場受講(対面)/Zoomオンライン受講 選択可> <見逃し視聴選択可>
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2月27日(木) - 東京 港区
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