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■ 2024年 出願公開件数ランキング 第311位 105件 (2023年:第332位 104件)
■ 2024年 特許取得件数ランキング 第286位 108件 (2023年:第345位 92件)
(ランキング更新日:2025年1月31日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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特許 7542561 | 位置ずれの測定およびその改善のための関心領域の選択 | 2024年 8月30日 | |
特許 7539467 | 計測ランドスケープに基づく計測最適化のためのシステムおよび方法 | 2024年 8月23日 | |
特許 7538881 | 液体窒素のための自己整列式真空フィードスルー | 2024年 8月22日 | |
特許 7535115 | 軟X線スキャタロメトリに依拠するオーバレイ計測方法及びシステム | 2024年 8月15日 | |
特許 7530920 | テスト用フォトマスクを用いるTDIイメージセンサ向けEUVインサイチュー直線性校正 | 2024年 8月 8日 | |
特許 7531030 | オーバレイ計測システム及び方法 | 2024年 8月 8日 | |
特許 7527400 | オーバーレイ計測ツールおよび方法 | 2024年 8月 2日 | |
特許 7525735 | 磁気液浸電子銃 | 2024年 7月30日 | |
特許 7523682 | 半導体デバイス製造方法及び半導体製造アセンブリ用プロセス制御システム | 2024年 7月26日 | |
特許 7520058 | マルチステージマルチゾーン基板位置決めシステム | 2024年 7月22日 | |
特許 7508659 | 空間的に変化する偏光回転子および偏光子を用いた高感度粒子検出 | 2024年 7月 1日 | |
特許 7506756 | 位置ずれ測定値に対するウェハ傾斜の影響の補正のためのシステムおよび方法 | 2024年 6月26日 | |
特許 7503140 | 高圧流れを有するレーザ維持プラズマ光源 | 2024年 6月19日 | |
特許 7502389 | 試料の欠陥検出及び光ルミネセンス測定のためのシステム及び方法 | 2024年 6月18日 | |
特許 7502530 | ターゲット | 2024年 6月18日 |
108 件中 46-60 件を表示
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7542561 7539467 7538881 7535115 7530920 7531030 7527400 7525735 7523682 7520058 7508659 7506756 7503140 7502389 7502530
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2月4日(火) - 東京 港区
2月4日(火) - 神奈川 川崎市
2月4日(火) -
2月4日(火) -
2月5日(水) - 東京 港区
2月5日(水) -
2月5日(水) -
2月5日(水) -
2月6日(木) - 東京 港区
2月6日(木) -
2月7日(金) -
2月7日(金) - 東京 港区
2月7日(金) - 神奈川 横浜市
2月7日(金) -
2月13日(木) - 岐阜 大垣市
2月13日(木) -
2月13日(木) -
2月13日(木) - 神奈川 綾瀬市
2月13日(木) -
2月13日(木) -
2月14日(金) - 東京 大田
<エンジニア(技術者)および研究開発担当(R&D部門)向け> 基礎から学ぶ/自分で行うIPランドスケープ®の活用・実践 <東京会場受講(対面)/Zoomオンライン受講 選択可> <見逃し視聴選択可>
2月14日(金) - 東京 千代田区
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