ホーム > 特許ランキング > ケーエルエー−テンカー コーポレイション > 2024年 > 特許一覧
※ ログインすれば出願人(ケーエルエー−テンカー コーポレイション)をリストに登録できます。ログインについて
■ 2024年 出願公開件数ランキング 第311位 105件
(
2023年:第332位 104件)
■ 2024年 特許取得件数ランキング 第286位 108件
(
2023年:第345位 92件)
(ランキング更新日:2025年10月27日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
2011年 2012年 2013年 2014年 2015年 2016年 2017年 2018年 2019年 2020年 2021年 2022年 2023年 2025年
| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 7570527 | デュアルアパーチャ方式の高解像度電子ビーム装置 | 2024年10月21日 | |
| 特許 7569938 | オンザフライ散乱計測オーバーレイ計測ターゲット | 2024年10月18日 | |
| 特許 7569379 | ウェーハモデルを使用するウェーハ露光方法及びウェーハ製造アセンブリ | 2024年10月17日 | |
| 特許 7568639 | 設定可能焦点オフセットによって試料表面を追跡するための自動焦点調節システム | 2024年10月16日 | |
| 特許 7561793 | 半導体試料内の瑕疵を検出又は精査するシステム | 2024年10月 4日 | |
| 特許 7561882 | 半導体製造プロセスで使用される敏感な層の試料損傷を防いで走査型電子顕微鏡撮像を可能にする方法 | 2024年10月 4日 | |
| 特許 7557546 | 試験サンプルの温度変調特性の測定 | 2024年 9月27日 | |
| 特許 7557590 | 透過型小角X線散乱計量システム及び方法 | 2024年 9月27日 | |
| 特許 7553482 | 洗浄基板によるインシトゥプロセスチャンバチャック洗浄 | 2024年 9月18日 | |
| 特許 7553533 | 三次元半導体構造を可視化するコンピュータ可読記憶媒体 | 2024年 9月18日 | |
| 特許 7547625 | 半導体ウェハ計測における測定位置を決定するためのシステムおよび方法 | 2024年 9月 9日 | |
| 特許 7545412 | X線計量データセット同士を結合させることでパラメタ推定を改善する方法及びシステム | 2024年 9月 4日 | |
| 特許 7544781 | 傾斜周期構造を有する計測ターゲット及び方法 | 2024年 9月 3日 | |
| 特許 7544848 | ガス渦流を有するレーザ強化プラズマ光源 | 2024年 9月 3日 | |
| 特許 7543560 | 高度な反りサンプルの表面プロファイル計測 | 2024年 9月 2日 |
108 件中 31-45 件を表示
※ をクリックすると公報番号が選択状態になります。クリップボードにコピーする際にお使いください。
このページの公報番号をまとめてクリップボードにコピー
7570527 7569938 7569379 7568639 7561793 7561882 7557546 7557590 7553482 7553533 7547625 7545412 7544781 7544848 7543560
※ ログインすれば出願人をリストに登録できます。ケーエルエー−テンカー コーポレイションの知財の動向チェックに便利です。
10月28日(火) - 東京 港区
10月28日(火) -
10月28日(火) - 東京 港区
10月28日(火) - 福岡 北九州市
10月28日(火) -
10月29日(水) - 東京 港区
10月29日(水) -
10月30日(木) -
10月30日(木) -
10月30日(木) -
10月30日(木) - 大阪 大阪市
10月30日(木) - 愛知 名古屋市
10月31日(金) -
10月31日(金) -
10月31日(金) -
10月28日(火) - 東京 港区
11月4日(火) -
11月4日(火) - 大阪 大阪市
11月4日(火) -
11月5日(水) -
11月5日(水) -
11月6日(木) - 東京 港区
11月6日(木) - 大阪 大阪市
11月6日(木) - 大阪 大阪市
11月7日(金) -
11月7日(金) -
11月7日(金) -
11月4日(火) -
東京都新宿区新宿5-10-1 第2スカイビル6階 特許・実用新案 意匠 商標 外国特許 外国意匠 外国商標 訴訟 鑑定 コンサルティング
神奈川県横浜市港北区日吉本町1-4-5パレスMR201号 特許・実用新案 意匠 商標 外国特許 訴訟 鑑定 コンサルティング
東京都港区北青山2丁目7番20号 第二猪瀬ビル3F 特許・実用新案 意匠 商標 外国特許 外国意匠 外国商標 訴訟 鑑定 コンサルティング