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ケーエルエー−テンカー コーポレイション
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■ 2024年 出願公開件数ランキング 第311位 105件
（
2023年：第332位 104件）
■ 2024年 特許取得件数ランキング 第286位 108件
（2023年：第345位 92件）
（ランキング更新日：2025年1月22日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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ケーエルエー−テンカー コーポレイションの商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 7570527 | デュアルアパーチャ方式の高解像度電子ビーム装置 | 2024年10月21日 | |
| 特許 7569938 | オンザフライ散乱計測オーバーレイ計測ターゲット | 2024年10月18日 | |
| 特許 7569379 | ウェーハモデルを使用するウェーハ露光方法及びウェーハ製造アセンブリ | 2024年10月17日 | |
| 特許 7568639 | 設定可能焦点オフセットによって試料表面を追跡するための自動焦点調節システム | 2024年10月16日 | |
| 特許 7561793 | 半導体試料内の瑕疵を検出又は精査するシステム | 2024年10月 4日 | |
| 特許 7561882 | 半導体製造プロセスで使用される敏感な層の試料損傷を防いで走査型電子顕微鏡撮像を可能にする方法 | 2024年10月 4日 | |
| 特許 7557546 | 試験サンプルの温度変調特性の測定 | 2024年 9月27日 | |
| 特許 7557590 | 透過型小角Ｘ線散乱計量システム及び方法 | 2024年 9月27日 | |
| 特許 7553482 | 洗浄基板によるインシトゥプロセスチャンバチャック洗浄 | 2024年 9月18日 | |
| 特許 7553533 | 三次元半導体構造を可視化するコンピュータ可読記憶媒体 | 2024年 9月18日 | |
| 特許 7547625 | 半導体ウェハ計測における測定位置を決定するためのシステムおよび方法 | 2024年 9月 9日 | |
| 特許 7545412 | Ｘ線計量データセット同士を結合させることでパラメタ推定を改善する方法及びシステム | 2024年 9月 4日 | |
| 特許 7544781 | 傾斜周期構造を有する計測ターゲット及び方法 | 2024年 9月 3日 | |
| 特許 7544848 | ガス渦流を有するレーザ強化プラズマ光源 | 2024年 9月 3日 | |
| 特許 7543560 | 高度な反りサンプルの表面プロファイル計測 | 2024年 9月 2日 |
108 件中 31-45 件を表示
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7570527 7569938 7569379 7568639 7561793 7561882 7557546 7557590 7553482 7553533 7547625 7545412 7544781 7544848 7543560
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