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■ 2024年 出願公開件数ランキング 第311位 105件 (2023年:第332位 104件)
■ 2024年 特許取得件数ランキング 第286位 108件 (2023年:第345位 92件)
(ランキング更新日:2025年1月31日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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特許 7470120 | 電圧コントラストウェーハ検査におけるフラッド帯電及び像形成のための共同電子光学カラム | 2024年 4月17日 | |
特許 7464794 | サンプル位置決めシステム及び方法 | 2024年 4月 9日 | |
特許 7462639 | システム応答のリアルタイム検出及び補正 | 2024年 4月 5日 | |
特許 7462095 | 半導体デバイスの側面の検査装置 | 2024年 4月 4日 | |
特許 7461370 | 撓んだ半導体ウェハを平坦化する真空押え付け装置 | 2024年 4月 3日 | |
特許 7460775 | 高度なインライン部品平均試験 | 2024年 4月 2日 | |
特許 7455115 | プロセス条件計測ウェハアセンブリ | 2024年 3月25日 | |
特許 7454620 | ダイ・ダイ検査用適応性ケアエリア | 2024年 3月22日 | |
特許 7454656 | レーザ維持プラズマ照射源用の回転ランプ | 2024年 3月22日 | |
特許 7451687 | オーバレイ計測用格子ターゲット構造の暗視野イメージング | 2024年 3月18日 | |
特許 7451704 | レーザ周波数シフトによる高速位相シフト干渉法 | 2024年 3月18日 | |
特許 7451737 | EUV検査用ビーム安定化兼基準補正方法及び装置 | 2024年 3月18日 | |
特許 7446314 | EUV光学系用硼素ベースキャッピング層 | 2024年 3月 8日 | |
特許 7446447 | 複合的オーバレイ計測ターゲット | 2024年 3月 8日 | |
特許 7445749 | イメージングベースのオーバレイ測定の品質指標として高調波検出率を適用するためのシステムと方法 | 2024年 3月 7日 |
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7470120 7464794 7462639 7462095 7461370 7460775 7455115 7454620 7454656 7451687 7451704 7451737 7446314 7446447 7445749
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2月4日(火) - 東京 港区
2月4日(火) - 神奈川 川崎市
2月4日(火) -
2月4日(火) -
2月5日(水) - 東京 港区
2月5日(水) -
2月5日(水) -
2月5日(水) -
2月6日(木) - 東京 港区
2月6日(木) -
2月7日(金) -
2月7日(金) - 東京 港区
2月7日(金) - 神奈川 横浜市
2月7日(金) -
2月13日(木) - 岐阜 大垣市
2月13日(木) -
2月13日(木) -
2月13日(木) - 神奈川 綾瀬市
2月13日(木) -
2月13日(木) -
2月14日(金) - 東京 大田
<エンジニア(技術者)および研究開発担当(R&D部門)向け> 基礎から学ぶ/自分で行うIPランドスケープ®の活用・実践 <東京会場受講(対面)/Zoomオンライン受講 選択可> <見逃し視聴選択可>
2月14日(金) - 東京 千代田区
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