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ケーエルエー−テンカー コーポレイション
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■ 2024年 出願公開件数ランキング 第311位 105件
（
2023年：第332位 104件）
■ 2024年 特許取得件数ランキング 第286位 108件
（2023年：第345位 92件）
（ランキング更新日：2025年1月22日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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ケーエルエー−テンカー コーポレイションの商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 7440580 | レチクルを検査する装置および方法 | 2024年 2月28日 | |
| 特許 7438424 | 粒子検出のためのシステム及び方法 | 2024年 2月26日 | |
| 特許 7432623 | 広帯域紫外照明源 | 2024年 2月16日 | |
| 特許 7432759 | 電子ビーム検査システム | 2024年 2月16日 | |
| 特許 7431824 | スキャトロメトリオーバーレイ（ＳＣＯＬ）測定方法及びＳＣＯＬ測定システム | 2024年 2月15日 | |
| 特許 7431969 | 簡略化モデルを用いるトモグラフィ依拠半導体計測 | 2024年 2月15日 | |
| 特許 7429775 | フォトマスク検査における焦点マップ生成のための広帯域光干渉法 | 2024年 2月 8日 | |
| 特許 7429287 | 光変調式電子源 | 2024年 2月 7日 | |
| 特許 7427763 | 光学的表面欠陥物質特性評価のための方法およびシステム | 2024年 2月 5日 | |
| 特許 7427772 | 波長分解軟Ｘ線反射率測定に基づく半導体計測のための方法及びシステム | 2024年 2月 5日 | |
| 特許 7423618 | 透明フィルムの頂面での正確な光トポグラフィ測定のための除去可能な不透明コーティング | 2024年 1月29日 | |
| 特許 7422208 | モデルベースの限界寸法測定の方法およびシステム | 2024年 1月25日 | |
| 特許 7412548 | 極端紫外線パターンマスクの印刷可能な欠陥を減少させるためのシステムと方法 | 2024年 1月12日 | |
| 特許 7412559 | 確率的ドメイン知識に基づく計測レシピ最適化及び物理的実現 | 2024年 1月12日 | |
| 特許 7411683 | 光学計測のための高輝度の照明源 | 2024年 1月11日 |
108 件中 91-105 件を表示
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7440580 7438424 7432623 7432759 7431824 7431969 7429775 7429287 7427763 7427772 7423618 7422208 7412548 7412559 7411683
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