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エーエスエムエル ネザーランズ ビー．ブイ．
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■ 2024年 出願公開件数ランキング 第217位 144件
（
2023年：第242位 151件）
■ 2024年 特許取得件数ランキング 第249位 115件
（
2023年：第238位 146件）
（ランキング更新日：2024年11月13日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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エーエスエムエル ネザーランズ ビー．ブイ．の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特表 2024-501654 | 荷電粒子光学デバイス | 2024年 1月15日 | |
| 特表 2024-501655 | 電子レンズ | 2024年 1月15日 | |
| 特開 2024-3000 | 光学アイソレーションモジュール | 2024年 1月11日 | |
| 特開 2024-3134 | 荷電粒子遮断要素、このような要素を備えた露光装置、及びこのような露光装置を使用する方法 | 2024年 1月11日 | |
| 特表 2024-500633 | 荷電粒子システムにおける高度電荷コントローラモジュールによる熱補助検査 | 2024年 1月10日 | |
| 特表 2024-500655 | 電子密度分布を制御するための方法及び装置 | 2024年 1月10日 | |
| 特開 2024-1170 | 計測装置及び基板ステージ・ハンドラ・システム | 2024年 1月 9日 | |
| 特表 2024-500380 | リソグラフィ装置、メトロロジシステム、及びそれらの方法 | 2024年 1月 9日 | |
| 特表 2024-500207 | 流体ハンドリングシステム、方法およびリソグラフィ装置 | 2024年 1月 5日 | |
| 特表 2024-500021 | リソグラフィ方法 | 2024年 1月 4日 | |
| 特表 2024-500075 | 帯域幅及びスペックルに基づくリソグラフィプロセスの最適化 | 2024年 1月 4日 |
146 件中 136-146 件を表示
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2024-501654 2024-501655 2024-3000 2024-3134 2024-500633 2024-500655 2024-1170 2024-500380 2024-500207 2024-500021 2024-500075
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