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■ 2024年 出願公開件数ランキング 第221位 114件 (2023年:第242位 151件)
■ 2024年 特許取得件数ランキング 第237位 103件 (2023年:第238位 146件)
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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特表 2024-519279 | 広帯域放射を発生させるための光学素子 | 2024年 5月10日 | |
特表 2024-519281 | 計測装置およびリソグラフィ装置 | 2024年 5月10日 | |
特開 2024-59659 | 荷電粒子ビームシステムにおいてレベル変動を測定するための自己示差共焦点傾斜センサ | 2024年 5月 1日 | |
特表 2024-518603 | EUV露光装置における測定のための回折格子 | 2024年 5月 1日 | |
特開 2024-56720 | 荷電粒子操作デバイス | 2024年 4月23日 | |
特表 2024-515937 | 荷電粒子システムにおける検査中に局所焦点を特定するためのシステム及び方法 | 2024年 4月11日 | |
特表 2024-515941 | レーザビーム計測システム、レーザビームシステム、EUV放射源及びリソグラフィ装置 | 2024年 4月11日 | |
特開 2024-50537 | 静電レンズ設計 | 2024年 4月10日 | |
特開 2024-50859 | マスクアセンブリ及び関連する方法 | 2024年 4月10日 | |
特表 2024-515421 | 表面上のラフネス及び/又は欠陥測定のための測定装置並びに方法 | 2024年 4月10日 | |
特表 2024-515477 | 光学系、計測システム、リソグラフィ装置における収差の制御及びその方法 | 2024年 4月10日 | |
特表 2024-515487 | 温度調節システム、リソグラフィ装置及びオブジェクトを温度調節するための方法 | 2024年 4月10日 | |
特開 2024-45309 | 液滴発生器性能を監視及び制御する装置及び方法 | 2024年 4月 2日 | |
特開 2024-45512 | 装置 | 2024年 4月 2日 | |
特表 2024-514399 | スキャニング計測のためのデータフィルタ | 2024年 4月 2日 |
116 件中 61-75 件を表示
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2024-519279 2024-519281 2024-59659 2024-518603 2024-56720 2024-515937 2024-515941 2024-50537 2024-50859 2024-515421 2024-515477 2024-515487 2024-45309 2024-45512 2024-514399
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最新の制度改正を反映 海外の特許制度と実務上の留意点(米国・欧州(EPC)・中国)~米国ならびに EPC (欧州特許条約)・中国の各制度の下でのグローバル特許取得の基本的な知識と留意点を解説します~
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