特許ランキング - 出願人詳細情報 -

エーエスエムエル　ネザーランズ　ビー．ブイ．

※ ログインすれば出願人(エーエスエムエル　ネザーランズ　ビー．ブイ．)をリストに登録できます。ログインについて

　■　2024年出願公開件数ランキング　　　第221位　114件（2023年：第242位　151件）

　■　2024年特許取得件数ランキング　　　第237位　103件（2023年：第238位　146件）

（ランキング更新日：2024年9月20日）筆頭出願人である出願のみカウントしています

2011年 2012年 2013年 2014年 2015年 2016年 2017年 2018年 2019年 2020年 2021年 2022年 2023年

エーエスエムエル　ネザーランズ　ビー．ブイ．の商標一覧

公報番号	発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)	公報発行日
特表 2024-523820	電極歪の影響を補償する方法、評価システム	2024年 7月 2日
特表 2024-523874	レチクルのための冷却フード	2024年 7月 2日
特表 2024-523579	半導体製造に関連する変動源をデカップリングするための方法	2024年 6月28日
特開 2024-85420	マルチステッププロセス検査方法	2024年 6月26日
特開 2024-84743	荷電粒子装置用の交換可能モジュール	2024年 6月25日
特開 2024-83433	薄膜アセンブリを製造する方法	2024年 6月21日
特表 2024-522605	検査データフィルタリングのシステム及び方法	2024年 6月21日
特開 2024-79710	マルチビームＳＥＭツール用の自己参照型健全度監視システム	2024年 6月11日
特開 2024-79725	荷電粒子検査ツール、検査方法	2024年 6月11日
特表 2024-522053	データ処理デバイス及び方法、荷電粒子評価システム及び方法	2024年 6月11日
特表 2024-521551	モジュール式ウェーハテーブル及びその製造方法	2024年 6月 3日
特表 2024-521436	アパーチャアポダイゼーションを備えた構造照明を使用したレチクル粒子検出用の検査システム	2024年 5月31日
特表 2024-520289	極紫外線フォトリソグラフィ用途のためのハイブリッドフォトレジスト組成物	2024年 5月24日
特表 2024-519662	フーリエ変換ベースレイアウトパターンの階層的クラスタ化	2024年 5月21日
特表 2024-519754	極端紫外光源のためのメトロロジシステム	2024年 5月21日

116 件中 46-60 件を表示

※ をクリックすると公報番号が選択状態になります。クリップボードにコピーする際にお使いください。

このページの公報番号をまとめてクリップボードにコピー

2024-523820 2024-523874 2024-523579 2024-85420 2024-84743 2024-83433 2024-522605 2024-79710 2024-79725 2024-522053 2024-521551 2024-521436 2024-520289 2024-519662 2024-519754

※ ログインすれば出願人をリストに登録できます。エーエスエムエル　ネザーランズ　ビー．ブイ．の知財の動向チェックに便利です。

ログインについて

ランキング一覧に戻る

特許ランキング

2023年特許出願件数	2023年特許取得件数
2022年特許出願件数	2022年特許取得件数
2021年特許出願件数	2021年特許取得件数
2020年特許出願件数	2020年特許取得件数
2019年特許出願件数	2019年特許取得件数
2018年特許出願件数	2018年特許取得件数
2017年特許出願件数	2017年特許取得件数
2016年特許出願件数	2016年特許取得件数
2015年特許出願件数	2015年特許取得件数
2014年特許出願件数	2014年特許取得件数
2013年特許出願件数	2013年特許取得件数
2012年特許出願件数	2012年特許取得件数
2011年特許出願件数	2011年特許取得件数