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■ 2024年 出願公開件数ランキング 第173位 202件 (2023年:第197位 193件)
■ 2024年 特許取得件数ランキング 第185位 185件 (2023年:第172位 201件)
(ランキング更新日:2025年1月22日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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特開 2024-99966 | フッ素固定剤、フッ素固定方法、フッ素回収方法及び半導体製造装置の排ガスの処理方法 | 2024年 7月26日 | |
特開 2024-100611 | 情報処理装置、及び、情報処理方法 | 2024年 7月26日 | |
特開 2024-100769 | ポンプ装置及び電動機 | 2024年 7月26日 | |
特開 2024-98325 | 半導体製造装置における情報表示方法およびコンピュータプログラム | 2024年 7月23日 | |
特開 2024-94542 | 基板研磨装置、基板処理装置、方法、プログラム及び記憶媒体 | 2024年 7月10日 | |
特開 2024-94544 | 基板研磨装置、基板処理装置、方法、プログラム及び記憶媒体 | 2024年 7月10日 | |
特開 2024-94565 | 処理装置 | 2024年 7月10日 | |
特開 2024-94864 | 水嚢、および防水堤 | 2024年 7月10日 | |
特開 2024-95051 | 紫外線処理装置及び紫外線処理方法 | 2024年 7月10日 | |
特開 2024-93316 | プラズマ処理装置及び基板処理装置 | 2024年 7月 9日 | |
特開 2024-93324 | 基板吸着部材、トップリング、および基板処理装置 | 2024年 7月 9日 | |
特開 2024-93328 | トップリングおよび基板処理装置 | 2024年 7月 9日 | |
特開 2024-93432 | 基板研磨装置 | 2024年 7月 9日 | |
特開 2024-93464 | 光学式膜厚測定器の光量調整方法および研磨装置 | 2024年 7月 9日 | |
特開 2024-93733 | 研磨方法、研磨装置、および記録媒体 | 2024年 7月 9日 |
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2024-99966 2024-100611 2024-100769 2024-98325 2024-94542 2024-94544 2024-94565 2024-94864 2024-95051 2024-93316 2024-93324 2024-93328 2024-93432 2024-93464 2024-93733
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1月23日(木) -
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1月24日(金) - 東京 千代田区
1月24日(金) -
1月24日(金) - 東京 千代田区
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1月24日(金) - 神奈川 川崎市
1月24日(金) - 東京 千代田区
1月23日(木) -
1月27日(月) - 東京 港区
1月28日(火) - 東京 港区
1月28日(火) -
1月28日(火) -
1月28日(火) -
1月28日(火) - 大阪 大阪市
1月29日(水) - 東京 港区
1月29日(水) - 東京 港区
1月29日(水) - 東京 品川区
1月29日(水) -
1月29日(水) -
1月29日(水) -
1月30日(木) -
1月30日(木) -
1月30日(木) -
1月30日(木) - 東京 港区
1月31日(金) -
1月27日(月) - 東京 港区
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