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東京応化工業株式会社
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■ 2024年 出願公開件数ランキング 第253位 138件
（
2023年：第318位 109件）
■ 2024年 特許取得件数ランキング 第258位 123件
（2023年：第281位 118件）
（ランキング更新日：2025年1月8日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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東京応化工業株式会社の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特開 2024-162550 | レジスト組成物及びレジストパターン形成方法 | 2024年11月21日 | |
| 特開 2024-160592 | 表面改質層形成用組成物、及びレジストパターン形成方法 | 2024年11月14日 | |
| 特開 2024-160688 | エッチングマスクパターン形成用樹脂組成物、及びエッチングマスクパターンの製造方法 | 2024年11月14日 | |
| 特開 2024-158543 | エッチングマスクパターン形成用樹脂組成物、及びエッチングマスクパターンの製造方法 | 2024年11月 8日 | |
| 特開 2024-159497 | 輻射シート、放熱板、放熱装置、及び輻射シートの製造方法 | 2024年11月 8日 | |
| 特開 2024-159590 | エッチングマスクパターンの製造方法及びエッチングマスクパターン形成用樹脂組成物 | 2024年11月 8日 | |
| 特開 2024-155939 | 化合物及び酸拡散制御剤 | 2024年10月31日 | |
| 特開 2024-151472 | 表面修飾ポリイミド多孔質膜、及び表面修飾ポリイミドの製造方法 | 2024年10月25日 | |
| 特開 2024-149608 | レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 | 2024年10月18日 | |
| 特開 2024-147880 | レジスト組成物、レジストパターン形成方法、化合物及び高分子化合物 | 2024年10月17日 | |
| 特開 2024-143774 | 感光性樹脂組成物およびその製造方法 | 2024年10月11日 | |
| 特開 2024-138960 | 改質金属酸化物粒子の製造方法、改質金属酸化物粒子、光硬化性組成物、硬化物 | 2024年10月 9日 | |
| 特開 2024-137132 | 電磁波吸収体、及び電磁波吸収体形成用ペースト | 2024年10月 7日 | |
| 特開 2024-135730 | 硬化物層を基板から剥離する剥離方法、パターン化された硬化物層を備える基板の製造方法、及び剥離液 | 2024年10月 4日 | |
| 特開 2024-134101 | 膜形成用組成物、レジストパターン形成方法及びかご型シルセスキオキサン | 2024年10月 3日 |
142 件中 16-30 件を表示
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2024-162550 2024-160592 2024-160688 2024-158543 2024-159497 2024-159590 2024-155939 2024-151472 2024-149608 2024-147880 2024-143774 2024-138960 2024-137132 2024-135730 2024-134101
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