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■ 2019年 出願公開件数ランキング 第58位 660件
(2018年:第67位 588件)
■ 2019年 特許取得件数ランキング 第58位 415件
(2018年:第50位 503件)
(ランキング更新日:2025年7月8日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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特開 2019-220518 | 基板処理装置および処理液再利用方法 | 2019年12月26日 | |
特開 2019-220555 | 載置台及び基板処理装置 | 2019年12月26日 | |
特開 2019-220588 | 自動教示方法及び制御装置 | 2019年12月26日 | |
特開 2019-220623 | シャワーヘッドおよびプラズマ処理装置 | 2019年12月26日 | |
特開 2019-220628 | 基板処理装置および基板処理方法 | 2019年12月26日 | |
特開 2019-220644 | 基板処理装置 | 2019年12月26日 | |
特開 2019-220650 | プラズマ処理方法及びプラズマ処理装置 | 2019年12月26日 | |
特開 2019-220656 | 成膜方法及び成膜装置 | 2019年12月26日 | |
特開 2019-220676 | 配線固定構造及び処理装置 | 2019年12月26日 | |
特開 2019-220681 | 基板処理方法および基板処理装置 | 2019年12月26日 | |
特開 2019-220690 | Low−k層を保護する方法 | 2019年12月26日 | |
特開 2019-220712 | 塗布膜形成装置及び塗布膜形成システム | 2019年12月26日 | |
再表 2018-135487 | 異物検出装置、異物検出方法及び記憶媒体 | 2019年12月19日 | |
再表 2018-135492 | 半導体基板の処理方法及び半導体基板の処理装置 | 2019年12月19日 | |
再表 2018-150979 | 気体処理装置および基板処理装置 | 2019年12月19日 |
665 件中 16-30 件を表示
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2019-220518 2019-220555 2019-220588 2019-220623 2019-220628 2019-220644 2019-220650 2019-220656 2019-220676 2019-220681 2019-220690 2019-220712 2018-135487 2018-135492 2018-150979
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7月8日(火) -
7月8日(火) - 東京 港区
7月9日(水) - 東京 品川区
7月9日(水) -
7月9日(水) -
7月9日(水) -
7月10日(木) -
7月10日(木) - 大阪 大阪市
ますます頼りにされる商標担当者になるための3つのポイント ~ 社内の商標相談にサクサクと答えられるエッセンスを教えます ~
7月11日(金) - 東京 千代田区
7月11日(金) -
7月11日(金) -
7月8日(火) -
7月14日(月) -
7月14日(月) -
7月15日(火) - 東京 品川区
7月16日(水) -
7月17日(木) -
7月17日(木) -
7月18日(金) - 東京 千代田区
7月18日(金) -
7月14日(月) -
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