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東京エレクトロン株式会社

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  2019年 出願公開件数ランキング    第58位 660件 上昇2018年:第67位 588件)

  2019年 特許取得件数ランキング    第58位 415件 下降2018年:第50位 503件)

(ランキング更新日:2020年4月8日)筆頭出願人である出願のみカウントしています

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公報番号発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)公報発行日備考
特開 2019-220518 基板処理装置および処理液再利用方法 2019年12月26日
特開 2019-220555 載置台及び基板処理装置 2019年12月26日
特開 2019-220588 自動教示方法及び制御装置 2019年12月26日
特開 2019-220623 シャワーヘッドおよびプラズマ処理装置 2019年12月26日
特開 2019-220628 基板処理装置および基板処理方法 2019年12月26日
特開 2019-220644 基板処理装置 2019年12月26日
特開 2019-220650 プラズマ処理方法及びプラズマ処理装置 2019年12月26日
特開 2019-220656 成膜方法及び成膜装置 2019年12月26日
特開 2019-220676 配線固定構造及び処理装置 2019年12月26日
特開 2019-220681 基板処理方法および基板処理装置 2019年12月26日
特開 2019-220690 Low−k層を保護する方法 2019年12月26日
特開 2019-220712 塗布膜形成装置及び塗布膜形成システム 2019年12月26日
再表 2018-135487 異物検出装置、異物検出方法及び記憶媒体 2019年12月19日
再表 2018-135492 半導体基板の処理方法及び半導体基板の処理装置 2019年12月19日
再表 2018-150979 気体処理装置および基板処理装置 2019年12月19日

665 件中 16-30 件を表示

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