特許ランキング - 出願人詳細情報 -
東京エレクトロン株式会社
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■ 2019年 出願公開件数ランキング 第58位 660件
（
2018年：第67位 588件）
■ 2019年 特許取得件数ランキング 第58位 415件
（
2018年：第50位 503件）
（ランキング更新日：2020年2月14日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特開 2019-220518 | 基板処理装置および処理液再利用方法 | 2019年12月26日 | |
| 特開 2019-220555 | 載置台及び基板処理装置 | 2019年12月26日 | |
| 特開 2019-220588 | 自動教示方法及び制御装置 | 2019年12月26日 | |
| 特開 2019-220623 | シャワーヘッドおよびプラズマ処理装置 | 2019年12月26日 | |
| 特開 2019-220628 | 基板処理装置および基板処理方法 | 2019年12月26日 | |
| 特開 2019-220644 | 基板処理装置 | 2019年12月26日 | |
| 特開 2019-220650 | プラズマ処理方法及びプラズマ処理装置 | 2019年12月26日 | |
| 特開 2019-220656 | 成膜方法及び成膜装置 | 2019年12月26日 | |
| 特開 2019-220676 | 配線固定構造及び処理装置 | 2019年12月26日 | |
| 特開 2019-220681 | 基板処理方法および基板処理装置 | 2019年12月26日 | |
| 特開 2019-220690 | Ｌｏｗ−ｋ層を保護する方法 | 2019年12月26日 | |
| 特開 2019-220712 | 塗布膜形成装置及び塗布膜形成システム | 2019年12月26日 | |
| 再表 2018-135487 | 異物検出装置、異物検出方法及び記憶媒体 | 2019年12月19日 | |
| 再表 2018-135492 | 半導体基板の処理方法及び半導体基板の処理装置 | 2019年12月19日 | |
| 再表 2018-150979 | 気体処理装置および基板処理装置 | 2019年12月19日 |
665 件中 16-30 件を表示
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公開公報の場合は、種別「公開・公表特許公報(A)」の番号に、特許公報の場合は「特許公報・公告特許公報(B)」の番号にペーストしてください。
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