特許ランキング - 出願人詳細情報 -

東京エレクトロン株式会社

※ ログインすれば出願人(東京エレクトロン株式会社)をリストに登録できます。ログインについて

　■　2019年出願公開件数ランキング　　　第58位　660件（2018年：第67位　588件）

　■　2019年特許取得件数ランキング　　　第58位　415件（2018年：第50位　503件）

（ランキング更新日：2025年7月9日）筆頭出願人である出願のみカウントしています

2011年 2012年 2013年 2014年 2015年 2016年 2017年 2018年 2020年 2021年 2022年 2023年 2024年 2025年

東京エレクトロン株式会社の商標一覧

公報番号	発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)	公報発行日
特開 2019-220518	基板処理装置および処理液再利用方法	2019年12月26日
特開 2019-220555	載置台及び基板処理装置	2019年12月26日
特開 2019-220588	自動教示方法及び制御装置	2019年12月26日
特開 2019-220623	シャワーヘッドおよびプラズマ処理装置	2019年12月26日
特開 2019-220628	基板処理装置および基板処理方法	2019年12月26日
特開 2019-220644	基板処理装置	2019年12月26日
特開 2019-220650	プラズマ処理方法及びプラズマ処理装置	2019年12月26日
特開 2019-220656	成膜方法及び成膜装置	2019年12月26日
特開 2019-220676	配線固定構造及び処理装置	2019年12月26日
特開 2019-220681	基板処理方法および基板処理装置	2019年12月26日
特開 2019-220690	Ｌｏｗ−ｋ層を保護する方法	2019年12月26日
特開 2019-220712	塗布膜形成装置及び塗布膜形成システム	2019年12月26日
再表 2018-135487	異物検出装置、異物検出方法及び記憶媒体	2019年12月19日
再表 2018-135492	半導体基板の処理方法及び半導体基板の処理装置	2019年12月19日
再表 2018-150979	気体処理装置および基板処理装置	2019年12月19日

665 件中 16-30 件を表示

※ をクリックすると公報番号が選択状態になります。クリップボードにコピーする際にお使いください。

このページの公報番号をまとめてクリップボードにコピー

2019-220518 2019-220555 2019-220588 2019-220623 2019-220628 2019-220644 2019-220650 2019-220656 2019-220676 2019-220681 2019-220690 2019-220712 2018-135487 2018-135492 2018-150979

※ ログインすれば出願人をリストに登録できます。東京エレクトロン株式会社の知財の動向チェックに便利です。

ログインについて

ランキング一覧に戻る

特許ランキング

2025年特許出願件数	2025年特許取得件数
2024年特許出願件数	2024年特許取得件数
2023年特許出願件数	2023年特許取得件数
2022年特許出願件数	2022年特許取得件数
2021年特許出願件数	2021年特許取得件数
2020年特許出願件数	2020年特許取得件数
2018年特許出願件数	2018年特許取得件数
2017年特許出願件数	2017年特許取得件数
2016年特許出願件数	2016年特許取得件数
2015年特許出願件数	2015年特許取得件数
2014年特許出願件数	2014年特許取得件数
2013年特許出願件数	2013年特許取得件数
2012年特許出願件数	2012年特許取得件数
2011年特許出願件数	2011年特許取得件数