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東京エレクトロン株式会社
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■ 2015年 出願公開件数ランキング 第56位 677件
（
2014年：第58位 686件）
■ 2015年 特許取得件数ランキング 第51位 433件
（
2014年：第48位 694件）
（ランキング更新日：2025年10月30日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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東京エレクトロン株式会社の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 5781988 | 接合装置、接合システム、接合方法、プログラム及びコンピュータ記憶媒体 | 2015年 9月24日 | |
| 特許 5782226 | 基板処理装置 | 2015年 9月24日 | |
| 特許 5782293 | プラズマ生成用電極およびプラズマ処理装置 | 2015年 9月24日 | |
| 特許 5785152 | 化学気相成長法 | 2015年 9月24日 | |
| 特許 5778132 | 成膜装置 | 2015年 9月16日 | |
| 特許 5778911 | 水滅菌装置及び水滅菌方法 | 2015年 9月16日 | |
| 特許 5779168 | 周縁部塗布装置、周縁部塗布方法及び周縁部塗布用記録媒体 | 2015年 9月16日 | |
| 特許 5779439 | 前処理方法及びカーボンナノチューブの形成方法 | 2015年 9月16日 | |
| 特許 5779957 | ローディングユニット及び処理システム | 2015年 9月16日 | |
| 特許 5780062 | 基板処理装置及び成膜装置 | 2015年 9月16日 | |
| 特許 5780695 | 薄膜形成装置の洗浄方法、薄膜形成方法及び薄膜形成装置 | 2015年 9月16日 | |
| 特許 5780981 | ゲルマニウム薄膜の成膜方法 | 2015年 9月16日 | |
| 特許 5774532 | 連続処理システム、連続処理方法、及び、プログラム | 2015年 9月 9日 | |
| 特許 5775705 | カーボンナノチューブの形成方法及び前処理方法 | 2015年 9月 9日 | |
| 特許 5775851 | 塗布装置および塗布液充填方法 | 2015年 9月 9日 |
439 件中 121-135 件を表示
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5781988 5782226 5782293 5785152 5778132 5778911 5779168 5779439 5779957 5780062 5780695 5780981 5774532 5775705 5775851
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