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東京エレクトロン株式会社
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■ 2015年 出願公開件数ランキング 第56位 677件
（
2014年：第58位 686件）
■ 2015年 特許取得件数ランキング 第51位 433件
（
2014年：第48位 694件）
（ランキング更新日：2025年10月31日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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東京エレクトロン株式会社の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 5760617 | ローディングユニット及び処理システム | 2015年 8月12日 | |
| 特許 5761067 | ガス供給装置及び熱処理装置 | 2015年 8月12日 | |
| 特許 5762209 | 温度制御方法、その温度制御方法を実行させるためのプログラムを記録した記録媒体、温度制御システム及び熱処理装置 | 2015年 8月12日 | |
| 特許 5762704 | 基板処理装置及び温度調節方法 | 2015年 8月12日 | |
| 特許 5762708 | プラズマ生成装置、プラズマ処理装置及びプラズマ処理方法 | 2015年 8月12日 | |
| 特許 5762798 | 天井電極板及び基板処理載置 | 2015年 8月12日 | |
| 特許 5762841 | 半導体製造装置 | 2015年 8月12日 | |
| 特許 5762925 | 液処理装置および液処理方法 | 2015年 8月12日 | |
| 特許 5763947 | 基板処理装置及び回収装置 | 2015年 8月12日 | |
| 特許 5764186 | プラズマエッチング装置およびプラズマエッチング方法 | 2015年 8月12日 | |
| 特許 5758445 | 液処理装置および液処理方法 | 2015年 8月 5日 | |
| 特許 5758829 | ボロン含有シリコン酸炭窒化膜の形成方法およびシリコン酸炭窒化膜の形成方法 | 2015年 8月 5日 | |
| 特許 5758846 | パターン形成方法、パターン形成装置、及びコンピュータ可読記憶媒体 | 2015年 8月 5日 | |
| 特許 5759692 | 温度測定装置及び温度測定方法 | 2015年 8月 5日 | |
| 特許 5759718 | プラズマ処理装置 | 2015年 8月 5日 |
439 件中 151-165 件を表示
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5760617 5761067 5762209 5762704 5762708 5762798 5762841 5762925 5763947 5764186 5758445 5758829 5758846 5759692 5759718
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