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東京エレクトロン株式会社
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■ 2016年 出願公開件数ランキング 第61位 616件
（
2015年：第56位 677件）
■ 2016年 特許取得件数ランキング 第49位 561件
（
2015年：第51位 433件）
（ランキング更新日：2025年10月31日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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東京エレクトロン株式会社の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 5954108 | 基板処理装置 | 2016年 7月20日 | |
| 特許 5954125 | 基板処理装置、基板処理方法及び記憶媒体 | 2016年 7月20日 | |
| 特許 5954195 | 基板処理装置、基板処理方法及び記憶媒体 | 2016年 7月20日 | |
| 特許 5954202 | 成膜装置 | 2016年 7月20日 | |
| 特許 5954239 | 液処理方法 | 2016年 7月20日 | |
| 特許 5954266 | 塗布膜形成装置 | 2016年 7月20日 | |
| 特許 5955062 | プラズマ処理装置 | 2016年 7月20日 | |
| 特許 5955520 | マイクロ波処理装置およびその制御方法 | 2016年 7月20日 | |
| 特許 5955766 | 基板処理装置および基板処理方法 | 2016年 7月20日 | |
| 特許 5950878 | ボトル交換装置、基板処理装置、及び、ボトル交換方法 | 2016年 7月13日 | |
| 特許 5951324 | プラズマ処理装置 | 2016年 7月13日 | |
| 特許 5951377 | 液処理装置及び液処理方法 | 2016年 7月13日 | |
| 特許 5951384 | 温度制御システムへの温調流体供給方法及び記憶媒体 | 2016年 7月13日 | |
| 特許 5951444 | 基板処理装置および基板処理方法 | 2016年 7月13日 | |
| 特許 5951889 | 基板処理装置 | 2016年 7月13日 |
572 件中 301-315 件を表示
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5954108 5954125 5954195 5954202 5954239 5954266 5955062 5955520 5955766 5950878 5951324 5951377 5951384 5951444 5951889
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