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東京エレクトロン株式会社
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■ 2016年 出願公開件数ランキング 第61位 616件
（
2015年：第56位 677件）
■ 2016年 特許取得件数ランキング 第49位 561件
（
2015年：第51位 433件）
（ランキング更新日：2025年9月1日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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東京エレクトロン株式会社の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 5941023 | 基板洗浄装置、基板洗浄方法、及びコンピュータ読み取り可能な記録媒体 | 2016年 6月29日 | |
| 特許 5941623 | 処理方法および記憶媒体 | 2016年 6月29日 | |
| 特許 5941653 | シリコン窒化膜の成膜方法及びシリコン窒化膜の成膜装置 | 2016年 6月29日 | |
| 特許 5941713 | ウエハ検査用インターフェース及びウエハ検査装置 | 2016年 6月29日 | |
| 特許 5941971 | リング状シールド部材及びリング状シールド部材を備えた基板載置台 | 2016年 6月29日 | |
| 特許 5943067 | プラズマ処理装置、および高周波発生器 | 2016年 6月29日 | |
| 特許 5936535 | 液処理装置及び液処理方法 | 2016年 6月22日 | |
| 特許 5936717 | 単一基板剥離プロセシングのための逐次的段階混合 | 2016年 6月22日 | |
| 特許 5937028 | 現像処理方法、現像処理装置及び現像処理用記録媒体 | 2016年 6月22日 | |
| 特許 5937385 | 半導体製造装置のガス供給方法、ガス供給システム及び半導体製造装置 | 2016年 6月22日 | |
| 特許 5937456 | 基板洗浄装置および基板洗浄ユニット | 2016年 6月22日 | |
| 特許 5937632 | 基板処理方法、前処理装置、後処理装置、基板処理システムおよび記憶媒体 | 2016年 6月22日 | |
| 特許 5937809 | 基板搬送システム | 2016年 6月22日 | |
| 特許 5938164 | 成膜方法、成膜装置、半導体装置及びその製造方法 | 2016年 6月22日 | |
| 特許 5939118 | 基板処理装置、基板処理方法及び記憶媒体 | 2016年 6月22日 |
572 件中 331-345 件を表示
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5941023 5941623 5941653 5941713 5941971 5943067 5936535 5936717 5937028 5937385 5937456 5937632 5937809 5938164 5939118
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