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■ 2016年 出願公開件数ランキング 第61位 616件
(2015年:第56位 677件)
■ 2016年 特許取得件数ランキング 第49位 561件
(2015年:第51位 433件)
(ランキング更新日:2025年9月1日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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特許 5952059 | 基板処理装置および基板保持方法 | 2016年 7月13日 | |
特許 5952645 | ウエハ検査用インターフェース及びウエハ検査装置 | 2016年 7月13日 | |
特許 5953057 | プラズマ処理方法及びプラズマ処理装置 | 2016年 7月13日 | |
特許 5947023 | 温度制御装置、プラズマ処理装置、処理装置及び温度制御方法 | 2016年 7月 6日 | |
特許 5947138 | 成膜装置 | 2016年 7月 6日 | |
特許 5947710 | シード層の形成方法、シリコン膜の成膜方法および成膜装置 | 2016年 7月 6日 | |
特許 5947975 | 基板処理装置及び基板処理装置用連結部材 | 2016年 7月 6日 | |
特許 5948026 | 半導体製造装置及び処理方法 | 2016年 7月 6日 | |
特許 5949586 | 原料ガス供給装置、成膜装置、原料の供給方法及び記憶媒体 | 2016年 7月 6日 | |
特許 5943345 | ZnO膜の製造装置及び製造方法 | 2016年 7月 5日 | |
特許 5944484 | リソグラフィ適用において感放射線材料のラインを幅狭化する方法 | 2016年 7月 5日 | |
特許 5944883 | 粒子逆流防止部材及び基板処理装置 | 2016年 7月 5日 | |
特許 5945178 | ガスクラスター照射機構およびそれを用いた基板処理装置、ならびにガスクラスター照射方法 | 2016年 7月 5日 | |
特許 5945187 | 基板処理装置及び基板処理方法 | 2016年 7月 5日 | |
特許 5940342 | 基板搬送装置、基板処理システムおよび基板搬送方法、ならびに記憶媒体 | 2016年 6月29日 |
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5952059 5952645 5953057 5947023 5947138 5947710 5947975 5948026 5949586 5943345 5944484 5944883 5945178 5945187 5940342
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