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東京エレクトロン株式会社
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■ 2016年 出願公開件数ランキング 第61位 616件
（
2015年：第56位 677件）
■ 2016年 特許取得件数ランキング 第49位 561件
（
2015年：第51位 433件）
（ランキング更新日：2025年11月14日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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東京エレクトロン株式会社の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 5883470 | 液処理装置、液処理方法及びその液処理方法を実行させるためのプログラムを記録した記録媒体 | 2016年 3月15日 | |
| 特許 5883531 | 防汚処理組成物、処理装置、処理方法および処理物品 | 2016年 3月15日 | |
| 特許 5884500 | 成膜装置 | 2016年 3月15日 | |
| 特許 5884624 | 基板処理装置、調整方法及び記憶媒体 | 2016年 3月15日 | |
| 特許 5880627 | 原料供給装置及び半導体製造装置 | 2016年 3月 9日 | |
| 特許 5881565 | 基板処理方法、プログラム及びコンピュータ記憶媒体 | 2016年 3月 9日 | |
| 特許 5881612 | 半導体装置の製造方法および製造装置 | 2016年 3月 9日 | |
| 特許 5882075 | キャパシタの製造方法、キャパシタ、およびそれに用いられる誘電体膜の形成方法 | 2016年 3月 9日 | |
| 特許 5882167 | 熱処理装置 | 2016年 3月 9日 | |
| 特許 5882777 | 成膜装置 | 2016年 3月 9日 | |
| 特許 5882939 | 接合方法、接合装置および接合システム | 2016年 3月 9日 | |
| 特許 5883154 | 成膜装置 | 2016年 3月 9日 | |
| 特許 5883232 | 基板処理装置 | 2016年 3月 9日 | |
| 特許 5877908 | 補正値算出装置、補正値算出方法及びコンピュータプログラム | 2016年 3月 8日 | |
| 特許 5878091 | エッチング方法 | 2016年 3月 8日 |
572 件中 466-480 件を表示
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5883470 5883531 5884500 5884624 5880627 5881565 5881612 5882075 5882167 5882777 5882939 5883154 5883232 5877908 5878091
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