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東京エレクトロン株式会社
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■ 2021年 出願公開件数ランキング 第33位 878件
（
2020年：第43位 773件）
■ 2021年 特許取得件数ランキング 第45位 515件
（2020年：第54位 436件）
（ランキング更新日：2025年9月12日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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東京エレクトロン株式会社の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 6868686 | 成膜装置及びそのクリーニング方法 | 2021年 5月12日 | |
| 特許 6868991 | 基板処理装置および基板処理方法 | 2021年 5月12日 | |
| 特許 6869024 | パーティクル除去方法及び基板処理方法 | 2021年 5月12日 | |
| 特許 6869034 | プラズマ処理装置 | 2021年 5月12日 | |
| 特許 6869111 | 基板受け渡し方法及び基板処理装置 | 2021年 5月12日 | |
| 特許 6869123 | プローブ装置及び針跡転写方法 | 2021年 5月12日 | |
| 特許 6869141 | シリコン窒化膜の成膜方法及び成膜装置 | 2021年 5月12日 | |
| 特許 6870069 | めっき処理方法、めっき処理装置及び記憶媒体 | 2021年 5月12日 | |
| 特許 6865079 | 基板処理装置及び基板処理方法 | 2021年 4月28日 | |
| 特許 6865128 | プラズマ処理装置 | 2021年 4月28日 | |
| 特許 6865233 | 現像処理方法、コンピュータ記憶媒体及び現像処理装置 | 2021年 4月28日 | |
| 特許 6865602 | 成膜方法 | 2021年 4月28日 | |
| 特許 6865632 | 基板洗浄装置および基板洗浄方法 | 2021年 4月28日 | |
| 特許 6865828 | 搬送装置、基板処理システム、搬送方法、および基板処理方法 | 2021年 4月28日 | |
| 特許 6865864 | 埋め込み型電力レール | 2021年 4月28日 |
520 件中 346-360 件を表示
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6868686 6868991 6869024 6869034 6869111 6869123 6869141 6870069 6865079 6865128 6865233 6865602 6865632 6865828 6865864
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