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東京エレクトロン株式会社
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■ 2021年 出願公開件数ランキング 第33位 878件
（
2020年：第43位 773件）
■ 2021年 特許取得件数ランキング 第45位 515件
（2020年：第54位 436件）
（ランキング更新日：2025年12月5日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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東京エレクトロン株式会社の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 6976352 | プラズマエッチング方法及びプラズマエッチング装置 | 2021年12月 8日 | |
| 特許 6977474 | 半導体装置の製造方法 | 2021年12月 8日 | |
| 特許 6974088 | プラズマ処理装置及びプラズマ処理方法 | 2021年12月 1日 | |
| 特許 6974126 | 基板処理装置、基板処理方法、及び記憶媒体 | 2021年12月 1日 | |
| 特許 6974668 | ウェハレスドライクリーニング発光分光法を使用するドライエッチングプロセス特徴の制御 | 2021年12月 1日 | |
| 特許 6975584 | 半導体装置 | 2021年12月 1日 | |
| 特許 6969182 | プラズマ処理装置 | 2021年11月24日 | |
| 特許 6969348 | 基板処理装置、基板処理方法及び記憶媒体 | 2021年11月24日 | |
| 特許 6969434 | 洗浄具、基板洗浄装置及び基板洗浄方法 | 2021年11月24日 | |
| 特許 6970624 | 成膜システム及び基板上に膜を形成する方法 | 2021年11月24日 | |
| 特許 6970759 | 基板処理装置、基板処理方法及びコンピュータ読み取り可能な記録媒体 | 2021年11月24日 | |
| 特許 6971124 | 基板処理装置 | 2021年11月24日 | |
| 特許 6971135 | プラズマ処理装置 | 2021年11月24日 | |
| 特許 6971137 | 基板処理装置および基板処理方法 | 2021年11月24日 | |
| 特許 6971199 | 基板処理方法および基板処理装置 | 2021年11月24日 |
520 件中 31-45 件を表示
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6976352 6977474 6974088 6974126 6974668 6975584 6969182 6969348 6969434 6970624 6970759 6971124 6971135 6971137 6971199
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【大阪会場】 前田知財塾 ～スキルアップ編～ 知財の仕事を、もっと深く、もっと面白く！ 第2回 「特許権侵害判断・回避構造の検討」
12月19日(金) - 神奈川 川崎市
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