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東京エレクトロン株式会社
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（
2020年：第43位 773件）
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（2020年：第54位 436件）
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東京エレクトロン株式会社の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 6983008 | 液処理装置および液処理方法 | 2021年12月17日 | |
| 特許 6983103 | 処理装置及び埋め込み方法 | 2021年12月17日 | |
| 特許 6983282 | 光学膜形成方法、プログラム、コンピュータ記憶媒体及び光学膜形成装置 | 2021年12月17日 | |
| 特許 6983306 | 基板の反り修正方法、コンピュータ記憶媒体及び基板反り修正装置 | 2021年12月17日 | |
| 特許 6983311 | 基板処理システム及び基板処理方法 | 2021年12月17日 | |
| 特許 6984126 | ガス供給装置、プラズマ処理装置及びガス供給装置の製造方法 | 2021年12月17日 | |
| 特許 6984228 | 露光装置、露光装置の調整方法及び記憶媒体 | 2021年12月17日 | |
| 特許 6979826 | 基板処理方法および基板処理装置 | 2021年12月15日 | |
| 特許 6979888 | タングステン膜の成膜方法及び成膜システム | 2021年12月15日 | |
| 特許 6980457 | 基板処理装置、基板処理方法および記憶媒体 | 2021年12月15日 | |
| 特許 6981092 | 液処理装置 | 2021年12月15日 | |
| 特許 6981267 | エッチング方法及びエッチング装置 | 2021年12月15日 | |
| 特許 6981356 | 成膜装置及び成膜方法 | 2021年12月15日 | |
| 特許 6976166 | 基板処理方法および基板処理装置 | 2021年12月 8日 | |
| 特許 6976213 | 半導体装置の製造方法及び成膜装置 | 2021年12月 8日 |
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6983008 6983103 6983282 6983306 6983311 6984126 6984228 6979826 6979888 6980457 6981092 6981267 6981356 6976166 6976213
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【大阪会場】 前田知財塾 ～スキルアップ編～ 知財の仕事を、もっと深く、もっと面白く！ 第2回 「特許権侵害判断・回避構造の検討」
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