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■ 2023年 出願公開件数ランキング 第31位 722件
(2022年:第25位 842件)
■ 2023年 特許取得件数ランキング 第32位 762件
(2022年:第38位 690件)
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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特開 2023-102751 | 搬送アーム及び基板搬送装置 | 2023年 7月25日 | |
特表 2023-531601 | RF電圧及び電流(V-I)センサ及び測定方法 | 2023年 7月25日 | |
特開 2023-102138 | 塗布膜形成方法、塗布膜形成装置及びプログラム | 2023年 7月24日 | |
特開 2023-100428 | 成膜方法及び成膜装置 | 2023年 7月19日 | |
特開 2023-100449 | 補助露光装置、露光方法および記憶媒体 | 2023年 7月19日 | |
特開 2023-100543 | 加熱処理装置 | 2023年 7月19日 | |
特開 2023-100573 | 判定方法及び基板処理装置 | 2023年 7月19日 | |
特開 2023-100841 | 温度制御システム及び基板処理システム | 2023年 7月19日 | |
特開 2023-100073 | 基板分析システム、基板分析方法及び記憶媒体 | 2023年 7月18日 | |
特表 2023-530260 | 幅狭スロット接点を形成する方法 | 2023年 7月14日 | |
特開 2023-99617 | プラズマ処理装置、監視方法および監視プログラム | 2023年 7月13日 | |
特開 2023-99673 | 基板処理装置および基板乾燥方法 | 2023年 7月13日 | |
特開 2023-97610 | 成膜方法および成膜装置 | 2023年 7月10日 | |
特開 2023-98068 | 温度制御システム、半導体製造装置および温度制御方法 | 2023年 7月10日 | |
特開 2023-98599 | プラズマ処理装置 | 2023年 7月10日 |
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2023-102751 2023-531601 2023-102138 2023-100428 2023-100449 2023-100543 2023-100573 2023-100841 2023-100073 2023-530260 2023-99617 2023-99673 2023-97610 2023-98068 2023-98599
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2月25日(火) -
2月25日(火) -
2月26日(水) -
2月26日(水) -
2月26日(水) - 東京 港区
2月26日(水) -
2月26日(水) - 千葉 船橋市
2月27日(木) -
2月27日(木) -
2月27日(木) - 東京 港区
2月27日(木) -
2月27日(木) - 東京 千代田区
2月25日(火) -
3月4日(火) - 東京 港区
3月4日(火) -
3月4日(火) -
3月4日(火) -
3月5日(水) -
3月5日(水) -
3月6日(木) -
3月6日(木) - 東京 品川区
3月6日(木) - 東京 港区
3月6日(木) -
3月7日(金) -
3月7日(金) - 東京 港区
3月7日(金) -
3月7日(金) -
3月4日(火) - 東京 港区
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