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東京エレクトロン株式会社

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  2023年 出願公開件数ランキング    第31位 722件 下降2022年:第25位 842件)

  2023年 特許取得件数ランキング    第32位 762件 上昇2022年:第38位 690件)

(ランキング更新日:2025年2月21日)筆頭出願人である出願のみカウントしています

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公報番号発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)公報発行日備考
特開 2023-88520 プラズマエッチング処理装置及び上部電極 2023年 6月27日
特開 2023-87757 ノズル、基板処理装置および基板処理方法 2023年 6月26日
特開 2023-88160 基板処理装置及び基板処理方法 2023年 6月26日
特開 2023-87228 ガス処理方法およびガス処理装置 2023年 6月23日
特開 2023-87236 気化装置、基板処理システム及び気化方法 2023年 6月23日
特開 2023-87245 上部電極及びプラズマ処理装置 2023年 6月23日
特開 2023-87396 プラズマ処理装置及び電位制御方法 2023年 6月23日
特開 2023-84770 溶剤蒸気供給装置及び溶剤蒸気供給方法 2023年 6月20日
特開 2023-85186 検査方法、補正量算出方法および検査装置 2023年 6月20日
特開 2023-84217 基板支持台、プラズマ処理装置及びリングの交換方法 2023年 6月19日
特開 2023-84292 除去装置、基板処理装置および除去方法 2023年 6月19日
特開 2023-84397 成膜方法及び成膜装置 2023年 6月19日
特開 2023-84589 スパッタ装置及び制御方法 2023年 6月19日
特開 2023-83731 プラズマ処理装置 2023年 6月16日
特開 2023-83962 基板を処理するシステム、及びそのメンテナンス方法 2023年 6月16日

725 件中 346-360 件を表示

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2023-88520 2023-87757 2023-88160 2023-87228 2023-87236 2023-87245 2023-87396 2023-84770 2023-85186 2023-84217 2023-84292 2023-84397 2023-84589 2023-83731 2023-83962

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