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東京エレクトロン株式会社
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■ 2023年 出願公開件数ランキング 第31位 722件
（
2022年：第25位 842件）
■ 2023年 特許取得件数ランキング 第32位 762件
（
2022年：第38位 690件）
（ランキング更新日：2025年2月25日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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東京エレクトロン株式会社の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特開 2023-5881 | 成膜装置、および成膜装置のクリーニング方法 | 2023年 1月18日 | |
| 特開 2023-5996 | 基板処理装置及び基板処理方法 | 2023年 1月18日 | |
| 特開 2023-6114 | プラズマ処理チャンバ、プラズマ処理装置及び締結部材 | 2023年 1月18日 | |
| 特開 2023-6205 | プラズマ処理装置及びライナアセンブリ | 2023年 1月18日 | |
| 特開 2023-6217 | プラズマ処理装置 | 2023年 1月18日 | |
| 特開 2023-6219 | 基板処理装置および基板処理方法 | 2023年 1月18日 | |
| 特開 2023-6646 | 基板処理システム及び基板処理方法 | 2023年 1月18日 | |
| 特開 2023-6660 | 基板処理装置及び基板処理方法 | 2023年 1月18日 | |
| 特開 2023-6977 | プラズマ処理装置及びプラズマ処理方法 | 2023年 1月18日 | |
| 特開 2023-7137 | 成膜方法及び成膜装置 | 2023年 1月18日 | |
| 特開 2023-7180 | 成膜装置及び成膜方法 | 2023年 1月18日 | |
| 特開 2023-7226 | 基板処理装置 | 2023年 1月18日 | |
| 特開 2023-7231 | 半導体デバイスの製造方法 | 2023年 1月18日 | |
| 特開 2023-7312 | 基板処理装置、及び基板処理方法 | 2023年 1月18日 | |
| 特開 2023-3476 | 処理方法及び処理システム | 2023年 1月17日 |
725 件中 676-690 件を表示
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2023-5881 2023-5996 2023-6114 2023-6205 2023-6217 2023-6219 2023-6646 2023-6660 2023-6977 2023-7137 2023-7180 2023-7226 2023-7231 2023-7312 2023-3476
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