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東京エレクトロン株式会社
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■ 2023年 出願公開件数ランキング 第31位 722件
（
2022年：第25位 842件）
■ 2023年 特許取得件数ランキング 第32位 762件
（
2022年：第38位 690件）
（ランキング更新日：2025年2月25日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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東京エレクトロン株式会社の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特開 2023-2199 | プラズマ処理方法およびプラズマ処理装置 | 2023年 1月10日 | |
| 特開 2023-2200 | 成膜方法及び成膜装置 | 2023年 1月10日 | |
| 特開 2023-2250 | 排気網の製造方法、プラズマ処理装置および排気網 | 2023年 1月10日 | |
| 特開 2023-2295 | 基板処理装置及び液交換方法 | 2023年 1月10日 | |
| 特開 2023-2305 | 基板処理方法及び基板処理装置 | 2023年 1月10日 | |
| 特開 2023-2441 | エッチング方法及びプラズマ処理装置 | 2023年 1月10日 | |
| 特開 2023-2460 | エッチング方法及びプラズマ処理装置 | 2023年 1月10日 | |
| 特開 2023-2461 | 基板処理装置及び静電チャック | 2023年 1月10日 | |
| 特開 2023-2466 | プラズマ処理方法、プラズマ処理装置及びプラズマ処理システム | 2023年 1月10日 | |
| 特開 2023-1473 | プラズマ処理装置及びプラズマ処理方法 | 2023年 1月 6日 | |
| 特開 2023-1618 | プラズマ処理装置及びクリーニング方法 | 2023年 1月 6日 | |
| 特開 2023-1619 | 測定方法および測定装置 | 2023年 1月 6日 | |
| 特開 2023-106 | 基板を処理する装置のプロセスレシピを設定する方法及び基板を処理する装置 | 2023年 1月 4日 | |
| 特開 2023-280 | 温度補正情報算出装置、半導体製造装置、プログラム、温度補正情報算出方法 | 2023年 1月 4日 | |
| 特開 2023-292 | 成膜方法および成膜装置 | 2023年 1月 4日 |
725 件中 706-720 件を表示
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2023-2199 2023-2200 2023-2250 2023-2295 2023-2305 2023-2441 2023-2460 2023-2461 2023-2466 2023-1473 2023-1618 2023-1619 2023-106 2023-280 2023-292
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