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ラム リサーチ コーポレーション

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  2022年 出願公開件数ランキング    第198位 187件 上昇2021年:第341位 108件)

  2022年 特許取得件数ランキング    第512位 53件 下降2021年:第407位 63件)

(ランキング更新日:2024年11月22日)筆頭出願人である出願のみカウントしています

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公報番号発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)公報発行日備考
特表 2022-525595 ラメラセラミック構造 2022年 5月18日
特開 2022-71086 エッジリングの位置決めおよびセンタリング機構を組み込んだプラズマシース調整のための交換可能および/または折りたたみ式エッジリングアセンブリ 2022年 5月13日
特表 2022-525308 高アスペクト比エッチングのためのプラズマエッチングツール 2022年 5月12日
特表 2022-525028 プラズマ処理チャンバ用のチャック 2022年 5月11日
特表 2022-525085 プラズマチャンバを洗浄するための装置 2022年 5月11日
特表 2022-525086 独立して調節可能な台座を用いるマルチステーション半導体処理 2022年 5月11日
特表 2022-525191 半導体製造用途における摩擦攪拌接合 2022年 5月11日
特表 2022-524280 複数のプレナムおよびガス分配室を有する堆積ツール用のシャワーヘッド 2022年 5月 2日
特表 2022-524415 温度を近似させるための静電チャックヒータ抵抗測定 2022年 5月 2日
特表 2022-524041 モリブデン含有皮膜の堆積のための前駆体 2022年 4月27日
特表 2022-523689 金属膜の蒸着 2022年 4月26日
特表 2022-523709 基板の環境に敏感な表面のための犠牲保護層 2022年 4月26日
特表 2022-523870 基板処理システムのためのモデルベースのスケジュール設定 2022年 4月26日
特表 2022-523313 フィーチャスケールモデリングを用いた充填プロセスの最適化 2022年 4月22日
特表 2022-523095 急速交互プロセスにおいて均一性を向上させるためのマルチロケーションガス注入 2022年 4月21日

188 件中 121-135 件を表示

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2022-525595 2022-71086 2022-525308 2022-525028 2022-525085 2022-525086 2022-525191 2022-524280 2022-524415 2022-524041 2022-523689 2022-523709 2022-523870 2022-523313 2022-523095

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