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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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特許 7389285 | 複数のステーションシステムにおいてプラズマを平準化するために使用されるモジュール式レシピ制御較正(MRCC)装置 | 2023年11月29日 | |
特許 7386270 | 断続的な再修復プラズマを用い、ALDによる酸化ケイ素表面コーティングを使用したラジカル再結合の最少化 | 2023年11月24日 | |
特許 7385560 | シリコンチューブを製造するための炉および鋳型を含む電磁鋳造システム | 2023年11月22日 | |
特許 7384792 | プラズマ加熱された窓のマルチゾーン冷却 | 2023年11月21日 | |
特許 7383665 | 正面開口式リングポッド | 2023年11月20日 | |
特許 7382339 | MEMSに基づくコリオリ質量流コントローラ | 2023年11月16日 | |
特許 7382512 | 照射フォトレジストパターニングのための統合乾式プロセス | 2023年11月16日 | |
特許 7376507 | ウエハチャックアセンブリ | 2023年11月 8日 | |
特許 7376648 | 結合リング内に電極を使用することによってエッジ領域におけるイオンの方向性を制御するためのシステム及び方法 | 2023年11月 8日 | |
特許 7374103 | 静電チャック(ESC)ペデスタル電圧分離 | 2023年11月 6日 | |
特許 7374223 | プラズマソース/バイアス電力伝送の高速同期 | 2023年11月 6日 | |
特許 7373022 | 開放空間均圧化通路および側方閉じ込めを備えた平坦な基板縁部接触部 | 2023年11月 1日 | |
特許 7370377 | 基板処理システムにおけるマッチレスプラズマ源のための直接周波数同調 | 2023年10月27日 | |
特許 7368394 | ライナの不動態化および接着性改善のための金属ライナのジンケート処理およびドーピング | 2023年10月24日 | |
特許 7368520 | エッジリングの位置決めおよびセンタリング機構を組み込んだプラズマシース調整のための交換可能および/または折りたたみ式エッジリングアセンブリ | 2023年10月24日 |
113 件中 16-30 件を表示
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7389285 7386270 7385560 7384792 7383665 7382339 7382512 7376507 7376648 7374103 7374223 7373022 7370377 7368394 7368520
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11月22日(金) -
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11月26日(火) - 東京 港区
11月26日(火) -
11月26日(火) -
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11月27日(水) -
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11月28日(木) - 大阪 大阪市
11月28日(木) -
11月29日(金) - 東京 港区
11月29日(金) - 茨城 ひたちなか市
11月30日(土) -
12月1日(日) -
12月1日(日) -
11月25日(月) -
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