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■ 2023年 出願公開件数ランキング 第146位 259件
(2022年:第198位 187件)
■ 2023年 特許取得件数ランキング 第292位 112件
(2022年:第512位 53件)
(ランキング更新日:2025年8月25日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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特許 7313528 | 流れ均一性を改善させるためのフェースプレート穴を有する低容積シャワーヘッド | 2023年 7月24日 | |
特許 7311253 | 半導体製造装置のためのユーザ相互作用を自動化するシステムおよび方法 | 2023年 7月19日 | |
特許 7307745 | 窒化ハフニウム層による酸化ハフニウムの強誘電特性の変更 | 2023年 7月12日 | |
特許 7303796 | 基板の選択した側に堆積させるためのPECVD堆積システム | 2023年 7月 5日 | |
特許 7303830 | 静電チャックフィルターボックスおよび取付けブラケット | 2023年 7月 5日 | |
特許 7303926 | 追加の回転軸を有する回転インデクサ | 2023年 7月 5日 | |
特許 7303245 | ウエハ裏面における堆積の低減のための可変温度ハードウェアおよび方法 | 2023年 7月 4日 | |
特許 7296962 | 半導体RFプラズマ処理のためのパルス内のRFパルス | 2023年 6月23日 | |
特許 7296378 | PECVD金属ドープ炭素ハードマスクのための同質界面層を蒸着するためのシステムおよび方法 | 2023年 6月22日 | |
特許 7293211 | 高エネルギー原子層エッチング | 2023年 6月19日 | |
特許 7292256 | モノリシックセラミックガス分配プレート | 2023年 6月16日 | |
特許 7290634 | リアクタの処理バッチサイズを増加させるための方法および装置 | 2023年 6月13日 | |
特許 7286666 | 高電力回路からの切り離しを伴わない静電容量測定 | 2023年 6月 5日 | |
特許 7282795 | 低角度拡散のマルチレベルパラメータおよび周波数パルス | 2023年 5月29日 | |
特許 7282830 | 蒸着金属酸化物含有ハードマスクのEUVフォトパターニング | 2023年 5月29日 |
113 件中 61-75 件を表示
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7313528 7311253 7307745 7303796 7303830 7303926 7303245 7296962 7296378 7293211 7292256 7290634 7286666 7282795 7282830
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