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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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特許 7335060 | RFおよびガス供給のための金属化セラミック管を備える基板台座モジュール | 2023年 8月29日 | |
特許 7335243 | ALD膜特性の補正および可調節性のためのマルチゾーン台座 | 2023年 8月29日 | |
特許 7334166 | パターニングにおける酸化スズマンドレル | 2023年 8月28日 | |
特許 7334185 | マルチプルパターンニング処理での原子層堆積を使用するスペーサプロファイル制御 | 2023年 8月28日 | |
特許 7333780 | プラズマ処理副生成物を管理するための構成要素および処理 | 2023年 8月25日 | |
特許 7330954 | 金属酸化物の原子層エッチング | 2023年 8月22日 | |
特許 7326269 | 回転関節エンコーダを備えるウエハハンドリングロボット | 2023年 8月15日 | |
特許 7326359 | 半導体製造チャンバ内の消耗部品の余寿命の推定 | 2023年 8月15日 | |
特許 7325417 | 半導体処理のためのチャンバ構成要素のエクスサイチュコーティング | 2023年 8月14日 | |
特許 7323525 | エッジリング摩耗補償のためのシステムおよび方法 | 2023年 8月 8日 | |
特許 7321938 | 周波数調整を用いたデュアルレベルパルス化のためのRF整合回路網内の補助回路 | 2023年 8月 7日 | |
特許 7320168 | デザイナー原子層エッチング | 2023年 8月 3日 | |
特許 7320563 | 高温基板台座モジュール及びその構成要素 | 2023年 8月 3日 | |
特許 7320085 | 交互のエッチングプロセスおよび不動態化プロセス | 2023年 8月 2日 | |
特許 7317470 | パターン崩壊を防ぐためのエッチング後処理 | 2023年 7月31日 |
113 件中 46-60 件を表示
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7335060 7335243 7334166 7334185 7333780 7330954 7326269 7326359 7325417 7323525 7321938 7320168 7320563 7320085 7317470
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12月1日(日) -
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