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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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特許 7282910 | 高アスペクト比エッチングのためのプラズマエッチングツール | 2023年 5月29日 | |
特許 7282037 | 複数の状態で反射電力を低減するようにチューニングするためのシステムおよび方法 | 2023年 5月26日 | |
特許 7282130 | マルチステーション型堆積システムにおける膜厚整合のための、サイクル及び時間が可変のRF活性化方法 | 2023年 5月26日 | |
特許 7281506 | 付加製造されたガス分配マニホールド | 2023年 5月25日 | |
特許 7275039 | リニア真空搬送モジュールを有する省スペースプラットフォームアーキテクチャ | 2023年 5月17日 | |
特許 7274460 | 光計測を質量計測と組合せるためのシステム及び方法 | 2023年 5月16日 | |
特許 7271443 | 半導体処理で使用するための静電チャック | 2023年 5月11日 | |
特許 7269296 | 方法およびエッチングシステム | 2023年 5月 8日 | |
特許 7269327 | 加熱素子が埋め込まれた基板支持体のための長寿命高出力端子 | 2023年 5月 8日 | |
特許 7267926 | 半導体デバイス製造における酸化スズ膜 | 2023年 5月 2日 | |
特許 7266524 | 処理均一性を改善した基板支持体 | 2023年 4月28日 | |
特許 7262170 | 半導体処理ツールとの随意の統合を伴うスマートバイブレーションウエハ | 2023年 4月21日 | |
特許 7258962 | 半導体処理装置においてシャワーヘッド傾斜を動的に調整するためのアクチュエータ | 2023年 4月17日 | |
特許 7254437 | シリコン部品を調整するための方法 | 2023年 4月10日 | |
特許 7254473 | プラズマ処理チャンバのための電極 | 2023年 4月10日 |
113 件中 76-90 件を表示
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7282910 7282037 7282130 7281506 7275039 7274460 7271443 7269296 7269327 7267926 7266524 7262170 7258962 7254437 7254473
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11月26日(火) - 東京 港区
11月26日(火) -
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11月27日(水) -
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11月28日(木) - 大阪 大阪市
11月28日(木) -
11月29日(金) - 東京 港区
11月29日(金) - 茨城 ひたちなか市
11月30日(土) -
12月1日(日) -
12月1日(日) -
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