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■ 2024年 出願公開件数ランキング 第630位 43件 (2023年:第609位 49件)
■ 2024年 特許取得件数ランキング 第431位 65件 (2023年:第509位 54件)
(ランキング更新日:2025年1月9日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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特許 7421423 | マルチ荷電粒子ビーム描画装置及びマルチ荷電粒子ビーム描画方法 | 2024年 1月24日 | |
特許 7411521 | 荷電粒子ビーム調整方法、荷電粒子ビーム描画方法、および荷電粒子ビーム照射装置 | 2024年 1月11日 | |
特許 7411594 | 欠陥検査装置及び欠陥検査方法 | 2024年 1月11日 | |
特許 7409913 | 画像内のホールパターンの探索方法、パターン検査方法、及びパターン検査装置 | 2024年 1月 9日 | |
特許 7409946 | マルチ荷電粒子ビーム照射装置及びマルチ荷電粒子ビーム検査装置 | 2024年 1月 9日 | |
特許 7409988 | パターン検査装置及び輪郭線同士のアライメント量取得方法 | 2024年 1月 9日 |
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7421423 7411521 7411594 7409913 7409946 7409988
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1月11日(土) -
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1月15日(水) -
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1月16日(木) -
1月17日(金) - 東京 渋谷区
1月17日(金) -
1月17日(金) -
1月14日(火) - 東京 港区
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