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■ 2024年 出願公開件数ランキング 第220位 162件 (2023年:第242位 151件)
■ 2024年 特許取得件数ランキング 第257位 124件 (2023年:第238位 146件)
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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特許 7519455 | 信号電子検出のためのシステム及び方法 | 2024年 7月19日 | |
特許 7519465 | 高さ測定方法及び高さ測定システム | 2024年 7月19日 | |
特許 7518238 | サンプリングスキームを決定する方法、半導体基板測定装置、リソグラフィ装置 | 2024年 7月17日 | |
特許 7516366 | 電磁複合レンズ及びそのようなレンズを備えた荷電粒子光学システム | 2024年 7月16日 | |
特許 7516370 | メンブレンクリーニング装置 | 2024年 7月16日 | |
特許 7515524 | 基板形状測定デバイス | 2024年 7月12日 | |
特許 7515626 | 収差影響システム、モデル、及び製造プロセス | 2024年 7月12日 | |
特許 7515635 | 荷電粒子マルチビーム評価ツールで使用される検出器基板 | 2024年 7月12日 | |
特許 7514338 | 広帯域放射を発生させるための方法並びに関連する広帯域源及びメトロロジデバイス | 2024年 7月10日 | |
特許 7512403 | 荷電粒子システムにおける高スループット欠陥検査のためのシステム及び方法 | 2024年 7月 8日 | |
特許 7511002 | 流体ハンドリングシステム及びリソグラフィ装置 | 2024年 7月 4日 | |
特許 7511033 | メトロロジ方法及び装置並びにコンピュータプログラム | 2024年 7月 4日 | |
特許 7509969 | マスクアセンブリ | 2024年 7月 2日 | |
特許 7507763 | サンプルをスキャンするための荷電粒子ビームシステム | 2024年 6月28日 | |
特許 7507815 | 荷電粒子マルチビームレットリソグラフィーシステムを使用し、一意的チップを製作するための方法及びシステム | 2024年 6月28日 |
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7519455 7519465 7518238 7516366 7516370 7515524 7515626 7515635 7514338 7512403 7511002 7511033 7509969 7507763 7507815
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1月11日(土) -
1月11日(土) -
1月9日(木) -
1月14日(火) - 東京 港区
1月15日(水) -
1月15日(水) - 東京 千代田区
1月15日(水) -
1月15日(水) -
1月16日(木) - 石川 金沢市
1月16日(木) -
1月17日(金) - 東京 渋谷区
1月17日(金) -
1月17日(金) -
1月14日(火) - 東京 港区
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