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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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特許 7482238 | 検査装置 | 2024年 5月13日 | |
特許 7482258 | 磁石アセンブリ、コイルアセンブリ、平面モータ、位置決めデバイス及びリソグラフィ装置 | 2024年 5月13日 | |
特許 7481357 | 液滴発生器性能を制御する装置及び方法 | 2024年 5月10日 | |
特許 7478778 | EUVリソグラフィ用のメンブレン | 2024年 5月 7日 | |
特許 7478788 | 関心対象特性を算出するメトロロジ装置及び方法 | 2024年 5月 7日 | |
特許 7477635 | 荷電粒子評価ツール、検査方法 | 2024年 5月 1日 | |
特許 7477652 | リソグラフィ装置用基板ホルダ及び基板ホルダの製造方法 | 2024年 5月 1日 | |
特許 7473534 | ターゲット形成装置 | 2024年 4月23日 | |
特許 7467428 | 薄膜アセンブリを製造する方法 | 2024年 4月15日 | |
特許 7465912 | 半導体製造プロセスの条件を決定するための方法およびコンピュータプログラム | 2024年 4月11日 | |
特許 7465923 | 極端紫外線源 | 2024年 4月11日 | |
特許 7465334 | サポート、振動絶縁システム、リソグラフィ装置、オブジェクト測定装置、デバイス製造方法 | 2024年 4月10日 | |
特許 7463525 | デュアルステージリソグラフィ装置を用いる方法及びリソグラフィ装置 | 2024年 4月 8日 | |
特許 7461502 | 荷電粒子ビーム検査における多層構造のための画像向上 | 2024年 4月 3日 | |
特許 7459115 | 波面センサ及び関連するメトロロジ装置 | 2024年 4月 1日 |
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7482238 7482258 7481357 7478778 7478788 7477635 7477652 7473534 7467428 7465912 7465923 7465334 7463525 7461502 7459115
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1月11日(土) -
1月11日(土) -
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1月15日(水) -
1月15日(水) - 東京 千代田区
1月15日(水) -
1月15日(水) -
1月16日(木) - 石川 金沢市
1月16日(木) -
1月17日(金) - 東京 渋谷区
1月17日(金) -
1月17日(金) -
1月14日(火) - 東京 港区
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