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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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特許 7532550 | パターニングデバイス及びそのパターンを生成するためのシステム、製品、及び方法 | 2024年 8月13日 | |
特許 7531638 | プラズマをモニタするためのシステム | 2024年 8月 9日 | |
特許 7531650 | ペリクルに関連する状態を決定するための装置および方法 | 2024年 8月 9日 | |
特許 7531651 | サンプルをスキャンするための荷電粒子ビームシステム | 2024年 8月 9日 | |
特許 7530374 | 放射ビームを測定するための方法およびリソグラフィ装置 | 2024年 8月 7日 | |
特許 7529767 | 放射導管 | 2024年 8月 6日 | |
特許 7528206 | 広帯域放射発生用の中空コアフォトニック結晶ファイバに基づく光学部品を製造する方法 | 2024年 8月 5日 | |
特許 7527338 | 時間依存欠陥検査装置 | 2024年 8月 2日 | |
特許 7526736 | リソグラフィシステムを制御するための方法 | 2024年 8月 1日 | |
特許 7526234 | マルチビーム装置におけるビームセパレータの分散を補償するためのシステム及び方法 | 2024年 7月31日 | |
特許 7526259 | 液滴発生器ノズル | 2024年 7月31日 | |
特許 7525488 | メンブレンアセンブリを製造する方法 | 2024年 7月30日 | |
特許 7524280 | ペリクル及びペリクルアセンブリ | 2024年 7月29日 | |
特許 7523601 | パターニングプロセスの調整方法 | 2024年 7月26日 | |
特許 7520109 | パターニングデバイスを特徴付けるための測定システム及び方法 | 2024年 7月22日 |
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7532550 7531638 7531650 7531651 7530374 7529767 7528206 7527338 7526736 7526234 7526259 7525488 7524280 7523601 7520109
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