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エーエスエムエル ネザーランズ ビー．ブイ．
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■ 2024年 出願公開件数ランキング 第220位 162件
（
2023年：第242位 151件）
■ 2024年 特許取得件数ランキング 第257位 124件
（
2023年：第238位 146件）
（ランキング更新日：2025年1月9日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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エーエスエムエル ネザーランズ ビー．ブイ．の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 7568763 | 極端紫外光源におけるターゲット軌道計測 | 2024年10月16日 | |
| 特許 7566950 | アライメント方法及び装置 | 2024年10月15日 | |
| 特許 7566007 | リソグラフィ装置用のペリクル膜 | 2024年10月11日 | |
| 特許 7564162 | ペイロードを支持する防振装置 | 2024年10月 8日 | |
| 特許 7557003 | リソグラフィ装置で用いる基板ホルダ及びデバイス製造方法 | 2024年 9月26日 | |
| 特許 7555912 | 検査装置 | 2024年 9月25日 | |
| 特許 7555390 | 放射源 | 2024年 9月24日 | |
| 特許 7550214 | マイクロミラーアレイ | 2024年 9月12日 | |
| 特許 7547352 | レチクルアセンブリのアセンブリのための装置 | 2024年 9月 9日 | |
| 特許 7545386 | 光学変調器の制御 | 2024年 9月 4日 | |
| 特許 7543360 | 極紫外光源の光パルス発生 | 2024年 9月 2日 | |
| 特許 7543425 | アパーチャアセンブリ、ビームマニピュレータユニット、荷電粒子ビームを操作する方法、及び荷電粒子投影装置 | 2024年 9月 2日 | |
| 特許 7542110 | プロセスに対する補正の決定 | 2024年 8月29日 | |
| 特許 7536784 | 極端紫外光源の保護システム | 2024年 8月20日 | |
| 特許 7536840 | 極端紫外線光源のための供給システム | 2024年 8月20日 |
128 件中 16-30 件を表示
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7568763 7566950 7566007 7564162 7557003 7555912 7555390 7550214 7547352 7545386 7543360 7543425 7542110 7536784 7536840
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