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■ 2024年 出願公開件数ランキング 第220位 162件 (2023年:第242位 151件)
■ 2024年 特許取得件数ランキング 第257位 124件 (2023年:第238位 146件)
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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特許 7506800 | メトロロジー方法、ターゲット、及び基板 | 2024年 6月26日 | |
特許 7506193 | 流体パージシステムおよびパージ方法 | 2024年 6月25日 | |
特許 7505078 | 複数の荷電粒子ビームのための装置 | 2024年 6月24日 | |
特許 7504114 | EUV光源におけるターゲット材料制御 | 2024年 6月21日 | |
特許 7504282 | 光学装置を調整するためのシステムおよび方法 | 2024年 6月21日 | |
特許 7503635 | 荷電粒子評価ツール、検査方法 | 2024年 6月20日 | |
特許 7503049 | ターゲット材料送達システムの寿命を延長する装置及び方法 | 2024年 6月19日 | |
特許 7503196 | 人工ニューラルネットワークを使用する動き制御 | 2024年 6月19日 | |
特許 7498228 | 基板ホルダ、基板支持部、基板をクランプシステムにクランプする方法、およびリソグラフィ装置 | 2024年 6月11日 | |
特許 7493063 | 長いファイバ寿命を有する中空コアファイバベースの広帯域放射ジェネレータ | 2024年 5月30日 | |
特許 7490817 | アライメントマークの局所的な歪みに基づくアライメント信号の生成 | 2024年 5月27日 | |
特許 7488898 | 荷電粒子検査システムのビーム電流調整 | 2024年 5月22日 | |
特許 7483893 | 汚染検出計測システム、リソグラフィ装置、それらの方法 | 2024年 5月15日 | |
特許 7482910 | 半導体製造プロセスにおいて堆積モデルを適用する方法 | 2024年 5月14日 | |
特許 7483071 | サポートテーブルから物体をアンロードする方法 | 2024年 5月14日 |
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7506800 7506193 7505078 7504114 7504282 7503635 7503049 7503196 7498228 7493063 7490817 7488898 7483893 7482910 7483071
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1月11日(土) -
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1月15日(水) - 東京 千代田区
1月15日(水) -
1月15日(水) -
1月16日(木) - 石川 金沢市
1月16日(木) -
1月17日(金) - 東京 渋谷区
1月17日(金) -
1月17日(金) -
1月14日(火) - 東京 港区
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