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エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ.

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  2024年 出願公開件数ランキング    第220位 162件 上昇2023年:第242位 151件)

  2024年 特許取得件数ランキング    第257位 124件 下降2023年:第238位 146件)

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公報番号発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)公報発行日備考
特許 7457820 荷電粒子検査ツール、検査方法 2024年 3月28日
特許 7455783 リソグラフィ装置およびデバイス製造方法 2024年 3月26日
特許 7454561 EUV光源中の放射源材料の汚染を軽減するための装置及び方法 2024年 3月22日
特許 7453314 マルチビーム検査装置 2024年 3月19日
特許 7446374 ラジカルを輸送するための装置および方法 2024年 3月 8日
特許 7445630 フィードスルーデバイス及び信号導体経路構成 2024年 3月 7日
特許 7445003 マルチステッププロセス検査方法 2024年 3月 6日
特許 7443060 極紫外光源の光パルス発生 2024年 3月 5日
特許 7443431 計算メトロロジに基づく補正および制御 2024年 3月 5日
特許 7443454 リソグラフィ装置およびデバイス製造方法 2024年 3月 5日
特許 7443565 基板の表面についてのレベルデータを生成するためのシステムおよび方法 2024年 3月 5日
特許 7442441 荷電粒子ビーム検査のためのサンプルの予備帯電方法及び装置 2024年 3月 4日
特許 7438105 デバイス製造方法の制御パラメータを決定する方法、コンピュータプログラム、および、基板にデバイスを製造するためのシステム 2024年 2月26日
特許 7438275 デバイス製造方法の制御パラメータを決定する方法 2024年 2月26日
特許 7438287 装置 2024年 2月26日

128 件中 91-105 件を表示

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7457820 7455783 7454561 7453314 7446374 7445630 7445003 7443060 7443431 7443454 7443565 7442441 7438105 7438275 7438287

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