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(2023年:第242位 151件)
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(2023年:第238位 146件)
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
---|---|---|---|
特許 7457820 | 荷電粒子検査ツール、検査方法 | 2024年 3月28日 | |
特許 7455783 | リソグラフィ装置およびデバイス製造方法 | 2024年 3月26日 | |
特許 7454561 | EUV光源中の放射源材料の汚染を軽減するための装置及び方法 | 2024年 3月22日 | |
特許 7453314 | マルチビーム検査装置 | 2024年 3月19日 | |
特許 7446374 | ラジカルを輸送するための装置および方法 | 2024年 3月 8日 | |
特許 7445630 | フィードスルーデバイス及び信号導体経路構成 | 2024年 3月 7日 | |
特許 7445003 | マルチステッププロセス検査方法 | 2024年 3月 6日 | |
特許 7443060 | 極紫外光源の光パルス発生 | 2024年 3月 5日 | |
特許 7443431 | 計算メトロロジに基づく補正および制御 | 2024年 3月 5日 | |
特許 7443454 | リソグラフィ装置およびデバイス製造方法 | 2024年 3月 5日 | |
特許 7443565 | 基板の表面についてのレベルデータを生成するためのシステムおよび方法 | 2024年 3月 5日 | |
特許 7442441 | 荷電粒子ビーム検査のためのサンプルの予備帯電方法及び装置 | 2024年 3月 4日 | |
特許 7438105 | デバイス製造方法の制御パラメータを決定する方法、コンピュータプログラム、および、基板にデバイスを製造するためのシステム | 2024年 2月26日 | |
特許 7438275 | デバイス製造方法の制御パラメータを決定する方法 | 2024年 2月26日 | |
特許 7438287 | 装置 | 2024年 2月26日 |
128 件中 91-105 件を表示
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7457820 7455783 7454561 7453314 7446374 7445630 7445003 7443060 7443431 7443454 7443565 7442441 7438105 7438275 7438287
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AI時代の知財実務と戦略を再構築するための視座 ~調査・出願を効率化するプロンプト実例と、ソフトバンクに学ぶ組織的対応~
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