特許ランキング - 出願人詳細情報 -

エーエスエムエル　ネザーランズ　ビー．ブイ．

※ ログインすれば出願人(エーエスエムエル　ネザーランズ　ビー．ブイ．)をリストに登録できます。ログインについて

　■　2024年出願公開件数ランキング　　　第220位　162件（2023年：第242位　151件）

　■　2024年特許取得件数ランキング　　　第257位　124件（2023年：第238位　146件）

（ランキング更新日：2025年1月9日）筆頭出願人である出願のみカウントしています

2011年 2012年 2013年 2014年 2015年 2016年 2017年 2018年 2019年 2020年 2021年 2022年 2023年 2025年

エーエスエムエル　ネザーランズ　ビー．ブイ．の商標一覧

公報番号	発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)	公報発行日
特許 7457820	荷電粒子検査ツール、検査方法	2024年 3月28日
特許 7455783	リソグラフィ装置およびデバイス製造方法	2024年 3月26日
特許 7454561	ＥＵＶ光源中の放射源材料の汚染を軽減するための装置及び方法	2024年 3月22日
特許 7453314	マルチビーム検査装置	2024年 3月19日
特許 7446374	ラジカルを輸送するための装置および方法	2024年 3月 8日
特許 7445630	フィードスルーデバイス及び信号導体経路構成	2024年 3月 7日
特許 7445003	マルチステッププロセス検査方法	2024年 3月 6日
特許 7443060	極紫外光源の光パルス発生	2024年 3月 5日
特許 7443431	計算メトロロジに基づく補正および制御	2024年 3月 5日
特許 7443454	リソグラフィ装置およびデバイス製造方法	2024年 3月 5日
特許 7443565	基板の表面についてのレベルデータを生成するためのシステムおよび方法	2024年 3月 5日
特許 7442441	荷電粒子ビーム検査のためのサンプルの予備帯電方法及び装置	2024年 3月 4日
特許 7438105	デバイス製造方法の制御パラメータを決定する方法、コンピュータプログラム、および、基板にデバイスを製造するためのシステム	2024年 2月26日
特許 7438275	デバイス製造方法の制御パラメータを決定する方法	2024年 2月26日
特許 7438287	装置	2024年 2月26日

128 件中 91-105 件を表示

... 7

※ をクリックすると公報番号が選択状態になります。クリップボードにコピーする際にお使いください。

このページの公報番号をまとめてクリップボードにコピー

7457820 7455783 7454561 7453314 7446374 7445630 7445003 7443060 7443431 7443454 7443565 7442441 7438105 7438275 7438287

※ ログインすれば出願人をリストに登録できます。エーエスエムエル　ネザーランズ　ビー．ブイ．の知財の動向チェックに便利です。

ログインについて

ランキング一覧に戻る

特許ランキング

2025年特許出願件数	2025年特許取得件数
2023年特許出願件数	2023年特許取得件数
2022年特許出願件数	2022年特許取得件数
2021年特許出願件数	2021年特許取得件数
2020年特許出願件数	2020年特許取得件数
2019年特許出願件数	2019年特許取得件数
2018年特許出願件数	2018年特許取得件数
2017年特許出願件数	2017年特許取得件数
2016年特許出願件数	2016年特許取得件数
2015年特許出願件数	2015年特許取得件数
2014年特許出願件数	2014年特許取得件数
2013年特許出願件数	2013年特許取得件数
2012年特許出願件数	2012年特許取得件数
2011年特許出願件数	2011年特許取得件数