特許ランキング - 出願人詳細情報 -
東京エレクトロン株式会社
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■ 2017年 出願公開件数ランキング 第83位 585件
（
2016年：第61位 616件）
■ 2017年 特許取得件数ランキング 第66位 431件
（2016年：第49位 561件）
（ランキング更新日：2020年4月2日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特開 2017-226863 | ガス混合装置および基板処理装置 | 2017年12月28日 | |
| 特開 2017-226894 | プラズマ成膜方法およびプラズマ成膜装置 | 2017年12月28日 | |
| 特開 2017-226898 | 基板処理装置 | 2017年12月28日 | |
| 特開 2017-228230 | 基板処理システムおよび温度制御方法 | 2017年12月28日 | |
| 特開 2017-228354 | マイクロ波供給装置、プラズマ処理装置、及び、プラズマ処理方法 | 2017年12月28日 | |
| 特開 2017-228395 | プラズマ処理装置 | 2017年12月28日 | |
| 特開 2017-228459 | プラズマ調整用の支援装置、プラズマ調整方法及び記憶媒体 | 2017年12月28日 | |
| 特開 2017-228557 | 搬送装置および搬送方法、ならびに検査システム | 2017年12月28日 | |
| 特開 2017-228558 | プラズマ処理装置、及び波形補正方法 | 2017年12月28日 | |
| 特開 2017-228579 | 被処理基板の載置位置の設定方法及び成膜システム | 2017年12月28日 | |
| 特開 2017-228580 | 半導体装置の製造方法及び半導体製造装置 | 2017年12月28日 | |
| 特開 2017-228613 | 基板処理装置、基板処理装置の洗浄方法及び記憶媒体 | 2017年12月28日 | |
| 特開 2017-228633 | 補強構造体、真空チャンバー、およびプラズマ処理装置 | 2017年12月28日 | |
| 特開 2017-228690 | エッチング処理方法 | 2017年12月28日 | |
| 特開 2017-228696 | 基板載置装置及び基板載置方法 | 2017年12月28日 |
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2017-226863 2017-226894 2017-226898 2017-228230 2017-228354 2017-228395 2017-228459 2017-228557 2017-228558 2017-228579 2017-228580 2017-228613 2017-228633 2017-228690 2017-228696
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