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東京エレクトロン株式会社
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■ 2017年 出願公開件数ランキング 第83位 585件
（
2016年：第61位 616件）
■ 2017年 特許取得件数ランキング 第66位 431件
（2016年：第49位 561件）
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東京エレクトロン株式会社の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 6167673 | 成膜装置、成膜方法及び記憶媒体 | 2017年 7月26日 | |
| 特許 6169040 | プラズマ処理装置の上部電極構造、プラズマ処理装置、及びプラズマ処理装置の運用方法 | 2017年 7月26日 | |
| 特許 6169136 | ウエハ固定のためのＥＳＣ電荷制御装置及び方法 | 2017年 7月26日 | |
| 特許 6169491 | 上部電極及びプラズマ処理装置 | 2017年 7月26日 | |
| 特許 6169500 | 無電解めっき方法、無電解めっき装置および記憶媒体 | 2017年 7月26日 | |
| 特許 6169521 | プラズマエッチング方法 | 2017年 7月26日 | |
| 特許 6169701 | プラズマ処理装置及びプラズマ処理方法 | 2017年 7月26日 | |
| 特許 6170340 | ガス供給ヘッド、ガス供給機構及び基板処理装置 | 2017年 7月26日 | |
| 特許 6170378 | エッチング方法 | 2017年 7月26日 | |
| 特許 6165102 | 接合装置、接合システム、接合方法、プログラム、および情報記憶媒体 | 2017年 7月19日 | |
| 特許 6165647 | 塗布装置および接合システム | 2017年 7月19日 | |
| 特許 6165982 | プラズマ処理における空間分解発光分光分析 | 2017年 7月19日 | |
| 特許 6160500 | 成膜方法、成膜装置及び記憶媒体 | 2017年 7月12日 | |
| 特許 6160554 | 塗布膜形成装置、塗布膜形成方法、記憶媒体 | 2017年 7月12日 | |
| 特許 6160614 | 基板処理装置 | 2017年 7月12日 |
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6167673 6169040 6169136 6169491 6169500 6169521 6169701 6170340 6170378 6165102 6165647 6165982 6160500 6160554 6160614
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