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東京エレクトロン株式会社
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■ 2017年 出願公開件数ランキング 第83位 585件
（
2016年：第61位 616件）
■ 2017年 特許取得件数ランキング 第66位 431件
（2016年：第49位 561件）
（ランキング更新日：2025年5月21日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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東京エレクトロン株式会社の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 6161972 | エッチング方法及び記録媒体 | 2017年 7月12日 | |
| 特許 6162016 | プラズマ処理装置 | 2017年 7月12日 | |
| 特許 6163064 | 成膜装置及び成膜方法 | 2017年 7月12日 | |
| 特許 6163373 | 誘導結合プラズマ処理装置 | 2017年 7月12日 | |
| 特許 6156850 | プラズマ処理装置及びプラズマ処理装置の部材の交換判断方法 | 2017年 7月 5日 | |
| 特許 6157061 | ガス供給装置及び基板処理装置 | 2017年 7月 5日 | |
| 特許 6157385 | プラズマ処理装置及びプラズマ処理方法 | 2017年 7月 5日 | |
| 特許 6158111 | ガス供給方法及び半導体製造装置 | 2017年 7月 5日 | |
| 特許 6159156 | 測定対象物の厚さ計測方法 | 2017年 7月 5日 | |
| 特許 6159172 | 温度制御方法及びプラズマ処理装置 | 2017年 7月 5日 | |
| 特許 6159651 | フィルタ洗浄方法、液処理装置及び記憶媒体 | 2017年 7月 5日 | |
| 特許 6159757 | 基板の高精度エッチングのプラズマ処理方法 | 2017年 7月 5日 | |
| 特許 6153755 | プラズマ処理方法及びプラズマ処理装置 | 2017年 6月28日 | |
| 特許 6153886 | 洗浄装置、剥離システム、洗浄方法、プログラム及びコンピュータ記憶媒体 | 2017年 6月28日 | |
| 特許 6154677 | クリーニング方法及び処理装置 | 2017年 6月28日 |
440 件中 196-210 件を表示
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6161972 6162016 6163064 6163373 6156850 6157061 6157385 6158111 6159156 6159172 6159651 6159757 6153755 6153886 6154677
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