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東京エレクトロン株式会社

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  2017年 出願公開件数ランキング    第83位 585件 下降2016年:第61位 616件)

  2017年 特許取得件数ランキング    第66位 431件 下降2016年:第49位 561件)

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公報番号発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)公報発行日備考
特許 6161972 エッチング方法及び記録媒体 2017年 7月12日
特許 6162016 プラズマ処理装置 2017年 7月12日
特許 6163064 成膜装置及び成膜方法 2017年 7月12日
特許 6163373 誘導結合プラズマ処理装置 2017年 7月12日
特許 6156850 プラズマ処理装置及びプラズマ処理装置の部材の交換判断方法 2017年 7月 5日
特許 6157061 ガス供給装置及び基板処理装置 2017年 7月 5日
特許 6157385 プラズマ処理装置及びプラズマ処理方法 2017年 7月 5日
特許 6158111 ガス供給方法及び半導体製造装置 2017年 7月 5日
特許 6159156 測定対象物の厚さ計測方法 2017年 7月 5日
特許 6159172 温度制御方法及びプラズマ処理装置 2017年 7月 5日
特許 6159651 フィルタ洗浄方法、液処理装置及び記憶媒体 2017年 7月 5日
特許 6159757 基板の高精度エッチングのプラズマ処理方法 2017年 7月 5日
特許 6153755 プラズマ処理方法及びプラズマ処理装置 2017年 6月28日
特許 6153886 洗浄装置、剥離システム、洗浄方法、プログラム及びコンピュータ記憶媒体 2017年 6月28日
特許 6154677 クリーニング方法及び処理装置 2017年 6月28日

440 件中 196-210 件を表示

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6161972 6162016 6163064 6163373 6156850 6157061 6157385 6158111 6159156 6159172 6159651 6159757 6153755 6153886 6154677

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