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東京エレクトロン株式会社
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■ 2017年 出願公開件数ランキング 第83位 585件
（
2016年：第61位 616件）
■ 2017年 特許取得件数ランキング 第66位 431件
（2016年：第49位 561件）
（ランキング更新日：2025年2月27日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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東京エレクトロン株式会社の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 6154820 | プラズマ処理方法及びプラズマ処理装置 | 2017年 6月28日 | |
| 特許 6150506 | 成膜方法 | 2017年 6月21日 | |
| 特許 6150724 | 凹部を充填する方法 | 2017年 6月21日 | |
| 特許 6151204 | 接合方法および接合システム | 2017年 6月21日 | |
| 特許 6151215 | プラズマエッチング方法 | 2017年 6月21日 | |
| 特許 6145415 | 剥離方法、プログラム、コンピュータ記憶媒体、剥離装置及び剥離システム | 2017年 6月14日 | |
| 特許 6146160 | 成膜方法、記憶媒体及び成膜装置 | 2017年 6月14日 | |
| 特許 6148210 | 現像方法及びコンピュータ読み取り可能な記録媒体 | 2017年 6月14日 | |
| 特許 6148991 | 基板処理装置、編集方法及び記憶媒体 | 2017年 6月14日 | |
| 特許 6149139 | 成膜方法、プログラム、コンピュータ記憶媒体及び成膜システム | 2017年 6月14日 | |
| 特許 6141144 | 基板処理方法、プログラム、コンピュータ記憶媒体及び基板処理システム | 2017年 6月 7日 | |
| 特許 6141212 | 処理液ノズル及び塗布処理装置 | 2017年 6月 7日 | |
| 特許 6141855 | プラズマエッチング方法及びプラズマエッチング装置 | 2017年 6月 7日 | |
| 特許 6142059 | 基板処理方法、基板処理システムおよび記憶媒体 | 2017年 6月 7日 | |
| 特許 6142629 | 原料ガス供給装置、成膜装置及び原料ガス供給方法 | 2017年 6月 7日 |
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6154820 6150506 6150724 6151204 6151215 6145415 6146160 6148210 6148991 6149139 6141144 6141212 6141855 6142059 6142629
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