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東京エレクトロン株式会社
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■ 2018年 出願公開件数ランキング 第67位 588件
（
2017年：第83位 585件）
■ 2018年 特許取得件数ランキング 第50位 503件
（2017年：第66位 431件）
（ランキング更新日：2025年8月25日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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東京エレクトロン株式会社の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 6406231 | 基板処理装置 | 2018年10月17日 | |
| 特許 6407762 | 成膜装置 | 2018年10月17日 | |
| 特許 6407764 | 基板処理システム、基板処理システムの制御方法、及び記憶媒体 | 2018年10月17日 | |
| 特許 6407803 | 接合装置、接合システム、接合方法、プログラム及びコンピュータ記憶媒体 | 2018年10月17日 | |
| 特許 6407829 | 基板液処理装置、基板液処理方法 | 2018年10月17日 | |
| 特許 6407832 | 処理液供給装置 | 2018年10月17日 | |
| 特許 6407833 | 処理液供給装置 | 2018年10月17日 | |
| 特許 6408673 | 基板処理装置、基板処理装置の基板検知方法および記憶媒体 | 2018年10月17日 | |
| 特許 6408903 | エッチング処理方法及びエッチング処理装置 | 2018年10月17日 | |
| 特許 6408904 | 真空引き方法及び真空処理装置 | 2018年10月17日 | |
| 特許 6401901 | 基板処理方法及び基板処理装置 | 2018年10月10日 | |
| 特許 6402087 | 液処理装置 | 2018年10月10日 | |
| 特許 6404111 | プラズマ処理装置 | 2018年10月10日 | |
| 特許 6404174 | めっき処理方法、記憶媒体およびめっき処理システム | 2018年10月10日 | |
| 特許 6404189 | 基板液処理装置、基板液処理方法及び記憶媒体 | 2018年10月10日 |
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6406231 6407762 6407764 6407803 6407829 6407832 6407833 6408673 6408903 6408904 6401901 6402087 6404111 6404174 6404189
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