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東京エレクトロン株式会社
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■ 2018年 出願公開件数ランキング 第67位 588件
（
2017年：第83位 585件）
■ 2018年 特許取得件数ランキング 第50位 503件
（2017年：第66位 431件）
（ランキング更新日：2025年9月1日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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東京エレクトロン株式会社の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 6404706 | 金属汚染除去方法および金属汚染除去装置 | 2018年10月10日 | |
| 特許 6398761 | 基板処理装置 | 2018年10月 3日 | |
| 特許 6400361 | 基板洗浄方法、基板処理方法、基板処理システム、および半導体装置の製造方法 | 2018年10月 3日 | |
| 特許 6400412 | 搬送方法及び検査システム | 2018年10月 3日 | |
| 特許 6400425 | 多層膜をエッチングする方法 | 2018年10月 3日 | |
| 特許 6400766 | 液処理方法、液処理装置および記憶媒体 | 2018年10月 3日 | |
| 特許 6394220 | アライメント装置及び基板処理装置 | 2018年 9月26日 | |
| 特許 6394466 | 基板処理装置 | 2018年 9月26日 | |
| 特許 6395673 | 基板処理装置 | 2018年 9月26日 | |
| 特許 6396670 | 成膜装置ならびに排気装置および排気方法 | 2018年 9月26日 | |
| 特許 6396699 | エッチング方法 | 2018年 9月26日 | |
| 特許 6396819 | プラズマ処理方法及びプラズマ処理装置 | 2018年 9月26日 | |
| 特許 6396822 | プラズマ処理装置のサセプタの電位を制御する方法 | 2018年 9月26日 | |
| 特許 6397307 | 凹部を充填する方法 | 2018年 9月26日 | |
| 特許 6397992 | 微粒子計測装置 | 2018年 9月26日 |
507 件中 121-135 件を表示
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6404706 6398761 6400361 6400412 6400425 6400766 6394220 6394466 6395673 6396670 6396699 6396819 6396822 6397307 6397992
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