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東京エレクトロン株式会社
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■ 2020年 出願公開件数ランキング 第43位 773件
（
2019年：第58位 660件）
■ 2020年 特許取得件数ランキング 第54位 436件
（2019年：第58位 415件）
（ランキング更新日：2025年10月16日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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東京エレクトロン株式会社の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 6797063 | ピン制御方法及び基板処理装置 | 2020年12月 9日 | |
| 特許 6797079 | プラズマ処理装置、プラズマ制御方法、及びプラズマ制御プログラム | 2020年12月 9日 | |
| 特許 6797267 | 接合システムおよび接合方法 | 2020年12月 9日 | |
| 特許 6797273 | プラズマ処理装置 | 2020年12月 9日 | |
| 特許 6797309 | 基板処理装置および基板処理方法 | 2020年12月 9日 | |
| 特許 6798185 | 液処理方法、基板処理装置及び記憶媒体 | 2020年12月 9日 | |
| 特許 6798390 | 現像方法、現像装置及び記憶媒体 | 2020年12月 9日 | |
| 特許 6792786 | ガス混合装置および基板処理装置 | 2020年12月 2日 | |
| 特許 6792788 | 半導体装置の製造方法 | 2020年12月 2日 | |
| 特許 6793019 | プラズマ処理装置 | 2020年12月 2日 | |
| 特許 6793031 | 基板処理装置および基板処理方法、ならびに基板処理システム | 2020年12月 2日 | |
| 特許 6793048 | 基板処理装置、ダミーディスペンス方法及びコンピュータ読み取り可能な記録媒体 | 2020年12月 2日 | |
| 特許 6793503 | グラフェンの生成方法 | 2020年12月 2日 | |
| 特許 6793742 | 電解処理治具及び電解処理方法 | 2020年12月 2日 | |
| 特許 6794730 | 処理液供給装置及び処理液供給装置の運用方法並びに記憶媒体 | 2020年12月 2日 |
443 件中 31-45 件を表示
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6797063 6797079 6797267 6797273 6797309 6798185 6798390 6792786 6792788 6793019 6793031 6793048 6793503 6793742 6794730
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