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東京エレクトロン株式会社

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  2023年 出願公開件数ランキング    第31位 722件 下降2022年:第25位 842件)

  2023年 特許取得件数ランキング    第32位 762件 上昇2022年:第38位 690件)

(ランキング更新日:2025年2月21日)筆頭出願人である出願のみカウントしています

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公報番号発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)公報発行日備考
特開 2023-38801 基板処理方法 2023年 3月17日
特開 2023-38080 プラズマ溶射装置 2023年 3月16日
特開 2023-38169 基板処理装置及び基板処理装置のメンテナンス方法 2023年 3月16日
特開 2023-38259 プラズマ処理装置、算出方法および算出プログラム 2023年 3月16日
特表 2023-511192 プラズマ処理装置のための高周波(RF)コイルを形成する金型および方法 2023年 3月16日
特開 2023-37313 成膜システムおよび成膜方法 2023年 3月15日
特表 2023-510887 変性チオキサントン光開始剤 2023年 3月15日
特開 2023-36132 レーザーリフトオフ用の積層基板、基板処理方法、及び基板処理装置 2023年 3月14日
特開 2023-36459 基板処理装置 2023年 3月14日
特開 2023-36955 周縁除去装置及び周縁除去方法 2023年 3月14日
特開 2023-33720 成膜方法および成膜装置 2023年 3月13日
特開 2023-33723 成膜方法および成膜装置 2023年 3月13日
特開 2023-34003 基板に成膜を行う装置及び基板に成膜を行う方法 2023年 3月13日
特開 2023-34298 基板処理装置 2023年 3月13日
特開 2023-35390 プラズマ測定方法 2023年 3月13日

725 件中 556-570 件を表示

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2023-38801 2023-38080 2023-38169 2023-38259 2023-511192 2023-37313 2023-510887 2023-36132 2023-36459 2023-36955 2023-33720 2023-33723 2023-34003 2023-34298 2023-35390

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