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東京エレクトロン株式会社
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■ 2025年 出願公開件数ランキング 第35位 566件
（
2024年：第27位 725件）
■ 2025年 特許取得件数ランキング 第20位 740件
（
2024年：第25位 802件）
（ランキング更新日：2025年11月14日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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東京エレクトロン株式会社の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 7705780 | パターンを形成する方法 | 2025年 7月10日 | |
| 特許 7705787 | プラズマ処理装置及びプラズマ処理方法 | 2025年 7月10日 | |
| 特許 7705812 | プラズマ処理装置 | 2025年 7月10日 | |
| 特許 7704502 | 情報処理装置、移載位置教示方法及び基板処理装置 | 2025年 7月 8日 | |
| 特許 7704505 | 半導体デバイスの製造方法 | 2025年 7月 8日 | |
| 特許 7704506 | 温度推定装置、プラズマ処理システム、温度推定方法及び温度推定プログラム | 2025年 7月 8日 | |
| 特許 7704507 | 熱処理装置、制御方法及びプログラム | 2025年 7月 8日 | |
| 特許 7704508 | 熱処理装置、被処理体保護方法及びプログラム | 2025年 7月 8日 | |
| 特許 7703668 | 基板処理方法及び基板処理システム | 2025年 7月 7日 | |
| 特許 7703740 | 接合装置 | 2025年 7月 7日 | |
| 特許 7702772 | 選択的原子層エッチング（ＡＬＥ）を用いた平面化を改善するシステムおよび方法 | 2025年 7月 4日 | |
| 特許 7702773 | プラズマエッチングにおける終点検出のための合成波長 | 2025年 7月 4日 | |
| 特許 7702856 | 基板処理システム及びパーティクル除去方法 | 2025年 7月 4日 | |
| 特許 7702930 | 成膜方法及び成膜装置 | 2025年 7月 4日 | |
| 特許 7703041 | 基板処理システム及び基板処理方法 | 2025年 7月 4日 |
748 件中 301-315 件を表示
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7705780 7705787 7705812 7704502 7704505 7704506 7704507 7704508 7703668 7703740 7702772 7702773 7702856 7702930 7703041
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【大阪会場】 前田知財塾 ～スキルアップ編～ 知財の仕事を、もっと深く、もっと面白く！ 第1回 「発明発掘・権利化業務」
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11月28日(金) - 東京 千代田区
11月28日(金) -
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