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■ 2018年 出願公開件数ランキング 第415位 83件 (2017年:第450位 88件)
■ 2018年 特許取得件数ランキング 第450位 58件 (2017年:第453位 58件)
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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特許 6350023 | 荷電粒子ビーム描画装置及び方法 | 2018年 7月 4日 | |
特許 6350204 | 描画データ検証方法、プログラム、及びマルチ荷電粒子ビーム描画装置 | 2018年 7月 4日 | |
特許 6353229 | マルチ荷電粒子ビーム描画装置及びマルチ荷電粒子ビーム描画方法 | 2018年 7月 4日 | |
特許 6353278 | マルチ荷電粒子ビーム描画方法及びマルチ荷電粒子ビーム描画装置 | 2018年 7月 4日 | |
特許 6345431 | 照明装置及びパターン検査装置 | 2018年 6月20日 | |
特許 6343705 | パターン評価方法およびパターン評価装置 | 2018年 6月13日 | |
特許 6339807 | 露光用マスクの製造方法、露光用マスクの製造システム、及び半導体装置の製造方法 | 2018年 6月 6日 | |
特許 6318358 | 照明装置および検査装置 | 2018年 5月 9日 | |
特許 6320831 | サセプタ処理方法及びサセプタ処理用プレート | 2018年 5月 9日 | |
特許 6322011 | 荷電粒子ビームのドリフト補正方法及び荷電粒子ビーム描画装置 | 2018年 5月 9日 | |
特許 6316052 | 荷電粒子ビーム描画装置及び荷電粒子ビーム描画方法 | 2018年 4月25日 | |
特許 6310263 | 検査装置 | 2018年 4月11日 | |
特許 6307367 | マスク検査装置、マスク評価方法及びマスク評価システム | 2018年 4月 4日 | |
特許 6293023 | 検査方法 | 2018年 3月14日 | |
特許 6293024 | 試料高さ検出装置およびパターン検査システム | 2018年 3月14日 |
59 件中 31-45 件を表示
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6350023 6350204 6353229 6353278 6345431 6343705 6339807 6318358 6320831 6322011 6316052 6310263 6307367 6293023 6293024
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